摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
·纳米材料概述 | 第9-10页 |
·巨磁电阻效应 | 第10-18页 |
·巨磁电阻效应的发现 | 第11-12页 |
·巨磁电阻与传统磁阻的区别 | 第12页 |
·巨磁电阻效应分类 | 第12-13页 |
·巨磁电阻效应产生机理 | 第13-14页 |
·巨磁电阻效应的应用 | 第14-15页 |
·巨磁电阻材料 | 第15-18页 |
·磁性多层纳米线的制备 | 第18-22页 |
·物理法 | 第18页 |
·化学法 | 第18-19页 |
·模板法 | 第19页 |
·模板电化学制备技术 | 第19-22页 |
·磁性纳米线研究进展 | 第22页 |
·巨磁电阻效应的国内外研究现状 | 第22-24页 |
·本论文的研究工作 | 第24-27页 |
·FeMn 合金纳米线的制备及其结构表征 | 第25页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线 | 第25页 |
·巨磁电阻传感器的设计 | 第25-27页 |
第二章 实验方法 | 第27-38页 |
·引言 | 第27页 |
·AAO 模板的制备 | 第27-30页 |
·实验药品 | 第27页 |
·仪器 | 第27-28页 |
·工艺流程及参数 | 第28-30页 |
·电极的制备 | 第30-31页 |
·实验药品 | 第30页 |
·仪器 | 第30页 |
·工艺流程 | 第30-31页 |
·纳米线的制备 | 第31-32页 |
·实验药品 | 第31-32页 |
·仪器 | 第32页 |
·实验装置图 | 第32页 |
·纳米线的表征 | 第32-34页 |
·纳米线的形貌表征 | 第32-33页 |
·纳米线的结构表征 | 第33-34页 |
·纳米线的成分分析 | 第34页 |
·纳米线的磁性能和巨磁电阻性能测试 | 第34-38页 |
·磁性能测试 | 第34-35页 |
·巨磁电阻性能测试 | 第35-38页 |
第三章 NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层线的制备与表征 | 第38-53页 |
·引言 | 第38页 |
·AAO 模板制备与表征 | 第38-39页 |
·FeMn 合金纳米线的制备与表征 | 第39-44页 |
·电极制备 | 第39页 |
·镀液的选取 | 第39-40页 |
·沉积电位的选择 | 第40-41页 |
·电流时间曲线 | 第41页 |
·FeMn 合金纳米线的形貌表征 | 第41-42页 |
·FeMn 合金纳米线的结构表征 | 第42页 |
·FeMn 合金纳米线的成分分析 | 第42-44页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线的制备与表征 | 第44-47页 |
·工艺参数 | 第44页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线的 SEM 表征 | 第44-45页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线的 TEM 表征 | 第45页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线的成分分析 | 第45-47页 |
·NiFe/Cu/NiFe/FeMn 多层纳米线的性能研究 | 第47-52页 |
·Cu 层厚度对多层纳米线的 GMR 性能的影响 | 第47-48页 |
·NiFe 自由层厚度对多层纳米线的 GMR 性能的影响 | 第48-49页 |
·NiFe 钉扎层厚度对多层纳米线 GMR 性能的影响 | 第49-51页 |
·FeMn 反铁磁层厚度对多层纳米线性能的影响 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第四章 巨磁电阻位移传感器的设计和研究 | 第53-64页 |
·引言 | 第53-54页 |
·巨磁电阻传感器的设计 | 第54-55页 |
·设计原理 | 第54页 |
·巨磁电阻传感器结构 | 第54-55页 |
·巨磁电阻传感器芯片的优化 | 第55页 |
·实验平台的搭建 | 第55-58页 |
·实验仪器 | 第55-56页 |
·实验装置图 | 第56-57页 |
·测试方法确定 | 第57-58页 |
·位移传感器实验结果与分析 | 第58-62页 |
·不同芯片的传感器实验结果与分析 | 第58-60页 |
·同一芯片传感器在不同温度下的实验结果与分析 | 第60-62页 |
·传感器应用前景 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第五章 结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |