氧化钒薄膜结构和性能研究
| 中文摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·二氧化钒薄膜金属一半导体相变特性的应用 | 第9-11页 |
| ·二氧化钒薄膜用于非致冷红外探测器 | 第11-13页 |
| ·本论文研究的意义和目的 | 第13页 |
| ·小结 | 第13-14页 |
| 第二章 二氧化钒的基本性质 | 第14-23页 |
| ·钒的物理化学性质 | 第14页 |
| ·钒.氧化合物及性质 | 第14-17页 |
| ·二氧化钒的相变特性 | 第17-19页 |
| ·二氧化钒的结构特性及相变原理 | 第19-22页 |
| ·二氧化钒薄膜作为红外敏感材料 | 第22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 第三章 二氧化钒的制备工艺 | 第23-29页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备方法 | 第23-25页 |
| ·二氧化钒粉末材料的制备方法 | 第25页 |
| ·二氧化钒薄膜制备的工艺特点 | 第25-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第四章 真空退火制备氧化钒薄膜 | 第29-57页 |
| ·血氧化二钒薄膜的制备 | 第29-31页 |
| ·氧化钒薄膜微结构分析和性能评价 | 第31-32页 |
| ·实验结果和分析讨论 | 第32-56页 |
| ·五氧化二钒薄膜 | 第32-36页 |
| ·真空退火温度与氧化钒薄膜的相结构的关系 | 第36-42页 |
| ·真空退火时间与氧化钒薄膜相结构和化学组份关系 | 第42-47页 |
| ·真空退火气氛对氧化钒薄膜的影响 | 第47-49页 |
| ·VO_2薄膜的电学性能研究 | 第49-54页 |
| ·VO_2薄膜的光学性能研究 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第五章 磁控反应溅射法制备氧化钒薄膜 | 第57-79页 |
| ·二氧化钒薄膜制备 | 第57-59页 |
| ·薄膜结构分析和性能评价 | 第59页 |
| ·实验结果和分析讨论 | 第59-78页 |
| ·氧化钒薄膜沉积速率与反应气体分压关系 | 第59-60页 |
| ·反应气体分压与薄膜相结构的关系 | 第60-64页 |
| ·氧化钒薄膜化合价和组份 | 第64-68页 |
| ·薄膜的微观结构及相结构变化 | 第68-72页 |
| ·氧化钒薄膜的电学相变特性和电阻温度系数 | 第72-75页 |
| ·氧化钒薄膜的光学相变特性 | 第75-78页 |
| ·小结 | 第78-79页 |
| 第六章 氧化钒薄膜的抗激光损伤评价 | 第79-89页 |
| ·薄膜材料激光损伤的机理 | 第79-81页 |
| ·激光辐照下声学和光学声子波包等产生的主要机制 | 第81页 |
| ·激光评价实验和结果讨论 | 第81-88页 |
| ·小结 | 第88-89页 |
| 第七章 总结 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-101页 |
| 发表论文 | 第101-102页 |
| 致谢 | 第102页 |
