金刚石薄膜的生长及导热模型研究
| 第一章 引言 | 第1-22页 |
| ·金刚石材料研究的发展简史 | 第8-10页 |
| ·国外的发展简史 | 第8-10页 |
| ·国内的发展简史 | 第10页 |
| ·金刚石的结构和主要性质 | 第10-17页 |
| ·金刚石及石墨的基本结构 | 第11-13页 |
| ·金刚石的主要性质 | 第13-17页 |
| ·常见合成金刚石薄膜的方法 | 第17-21页 |
| ·热丝化学气相沉积法 | 第17-19页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积 | 第19页 |
| ·直流等离子体喷射化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·燃烧火焰法 | 第20-21页 |
| ·研究内容与研究方法 | 第21-22页 |
| 第二章 CVD法沉积金刚石薄膜的机理 | 第22-35页 |
| ·成核机理 | 第22-26页 |
| ·金刚石薄膜成核 | 第22-23页 |
| ·增强成核的方法 | 第23-26页 |
| ·CVD法制备金刚石薄膜的生长机理 | 第26-33页 |
| ·金刚石薄膜的生长模式及生长阶段 | 第26-28页 |
| ·金刚石薄膜亚稳态生长条件 | 第28页 |
| ·氢原子的作用 | 第28页 |
| ·低压下气相合成金刚石薄膜的理论模型 | 第28-33页 |
| ·CVD法制备金刚石薄膜的一般规律 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 金刚石薄膜制备工艺的设计 | 第35-42页 |
| ·实验设备 | 第35-38页 |
| ·金刚石薄膜制备过程 | 第38-40页 |
| ·热丝CVD法沉积金刚石膜的影响因素 | 第38页 |
| ·衬底表面预处理 | 第38-39页 |
| ·金刚石薄膜的制备工艺设计 | 第39-40页 |
| ·样品的表征方法 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 实验样品结果分析与讨论 | 第42-60页 |
| ·衬底表面预处理对金刚石薄膜质量的影响 | 第42-44页 |
| ·碳源浓度对金刚石薄膜质量的影响 | 第44-47页 |
| ·衬底温度对金刚石薄膜质量的影响 | 第47-51页 |
| ·反应室压强对金刚石薄膜质量的影响 | 第51-54页 |
| ·热丝与衬底间距离对金刚石薄膜质量的影响 | 第54-56页 |
| ·生长时间对金刚石薄膜质量的影响 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 金刚石薄膜的导热模型 | 第60-72页 |
| ·金刚石薄膜导热模型研究 | 第60-66页 |
| ·数学模型的引入 | 第60-63页 |
| ·数学模型的建立 | 第63-66页 |
| ·计算机模拟程序的建立 | 第66-67页 |
| ·指导工艺参数优化 | 第67-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-75页 |
| ·工作总结 | 第72-73页 |
| ·不足与下一步工作打算 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 在读期间发表的论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
