| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 前言 | 第8-19页 |
| 1．1 氮化硅的结构特征、性能及其应用 | 第8-11页 |
| 1．l．1 氮化硅的结构特征 | 第8-10页 |
| 1．1．2 氮化硅的性能 | 第10页 |
| 1．1．3 氮化硅的应用 | 第10-11页 |
| 1．2 氮化硅陶瓷烧结的研究进展 | 第11-15页 |
| 1．2．1 反应烧结 | 第11页 |
| 1．2．2 常压烧结 | 第11-13页 |
| 1．2．3 热压烧结 | 第13页 |
| 1．2．4 重烧结 | 第13页 |
| 1．2．5 气氛压力烧结 | 第13页 |
| 1．2．6 热等静压烧结 | 第13页 |
| 1．2．7 微波烧结 | 第13-14页 |
| 1．2．8 放电等离子烧结 | 第14-15页 |
| 1．3 氮化硅陶瓷介电性能的研究进展 | 第15-18页 |
| 1．3．1 材料的介电性能 | 第15-16页 |
| 1．3．2 透波材料对介电性能的要求 | 第16-17页 |
| 1．3．3 氮化硅材料的研制进展 | 第17-18页 |
| 1．4 本研究的目的和意义 | 第18-19页 |
| 第2章 实验与测试 | 第19-25页 |
| 2．1 实验设计及配比 | 第19-20页 |
| 2．2 实验原料 | 第20-21页 |
| 2．3 实验设备 | 第21页 |
| 2．4 实验过程 | 第21-22页 |
| 2．5 测试 | 第22-25页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第25-54页 |
| 3．1 氮化硅陶瓷的液相烧结致密化 | 第25-35页 |
| 3．1．1 SPS烧结过程 | 第25-29页 |
| 3．1．2 烧结试样的物相变化 | 第29-34页 |
| 3．1．3 烧结温度、烧结助剂与致密化的关系 | 第34页 |
| 3．1．4 烧结助剂总含量与致密化的关系 | 第34-35页 |
| 3．2 液相烧结的致密化机理 | 第35-40页 |
| 3．2．1 传统的液相烧结机理 | 第35-37页 |
| 3．2．2 SPS致密化机理 | 第37-40页 |
| 3．3 磷酸铝对氮化硅陶瓷的烧结致密化的影响 | 第40-43页 |
| 3．3．1 烧结温度与致密度的关系 | 第40-43页 |
| 3．3．2 磷酸铝含量与致密度的关系 | 第43页 |
| 3．4 氮化硅陶瓷的力学性能 | 第43-47页 |
| 3．4．1 试样的致密度对材料力学性能的关系 | 第43-45页 |
| 3．4．2 SiO_2、Al_2O_3加入量对材料强度的影响 | 第45-46页 |
| 3．4．3 AlPO_4含量加入量对材料强度的影响 | 第46-47页 |
| 3．5 氮化硅陶瓷的介电性能 | 第47-54页 |
| 3．5．1 SA-1和 SB-1~3样介电性能与致密度的关系 | 第49-50页 |
| 3．5．2 SA-1和 SC-1~3样介电性能与致密度的关系 | 第50-52页 |
| 3．5．3 SD-1~5样介电性能与致密度的关系 | 第52-54页 |
| 第4章 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
