摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
缩略表 | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1. 研究背景 | 第11-20页 |
·革兰氏阴性菌的危害 | 第11-12页 |
·革兰氏阴性菌特点 | 第12-13页 |
·外膜蛋白研究的必要性 | 第13-15页 |
·外膜蛋白 OmpW 重要性 | 第15-16页 |
·铁离子重要性和活性氧稳态的意义 | 第16页 |
·铁代谢失衡和活性氧水平异常的危害 | 第16-17页 |
·铁离子、外膜蛋白与氧化应激的关系 | 第17-18页 |
·细菌适应并耐受应激的机制 | 第18-20页 |
2. 研究的目的和意义 | 第20-21页 |
第二章 外膜上高表达菌株的获得 | 第21-33页 |
1. 前言 | 第21-22页 |
2. 材料、试剂和方法 | 第22-28页 |
·材料试剂 | 第22-24页 |
·主要仪器设备 | 第24-25页 |
·外膜上高表达菌株的获得 | 第25-27页 |
·构建重组载体 | 第25-26页 |
·转化 | 第26-27页 |
·抗血清的制备 | 第27-28页 |
·胞浆高表达菌株的获得 | 第27页 |
·OmpW 蛋白纯化、免疫及抗血清的获得 | 第27-28页 |
·外膜上高表达菌株的验证 | 第28页 |
·提取外膜蛋白 OmpW | 第28页 |
·Western blot | 第28页 |
3. 结果 | 第28-31页 |
·外膜上高表达菌株的获得 | 第28-29页 |
·基因的克隆、转化及蛋白的表达 | 第28-29页 |
·抗血清的制备 | 第29-30页 |
·Western blot 证实 OM-OmpW 的 OmpW 在外膜上高表达 | 第30-31页 |
4. 讨论 | 第31-33页 |
第三章 氧化应激条件下细菌存活率差异分析 | 第33-44页 |
1. 前言 | 第33-34页 |
2 材料、试剂和方法 | 第34-37页 |
·材料试剂 | 第34页 |
·生长曲线的测定 | 第34-35页 |
·正常培养的细菌氧化应激条件下的存活率 | 第35-36页 |
·铁离子限制和氧化应激条件下细菌的存活率 | 第36页 |
·铁离子限制条件下培养 K12 菌的存活率 | 第36-37页 |
·细菌对铁离子的摄取 | 第37页 |
3. 结果 | 第37-43页 |
·生长曲线的测定 | 第37-38页 |
·正常培养的细菌氧化应激条件下的存活率 | 第38-39页 |
·铁离子限制和氧化应激条件下细菌的存活率 | 第39-40页 |
·铁离子限制培养 K12 菌的存活率 | 第40-41页 |
·细菌对铁离子的摄取 | 第41-43页 |
4. 讨论 | 第43-44页 |
第四章 铁离子或氧化应激条件对 OmpW 表达的影响 | 第44-48页 |
1. 前言 | 第44页 |
2. 材料、试剂和方法 | 第44-45页 |
·所用试剂、仪器及溶液配制 | 第44页 |
·K12 菌在铁离子限制的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响 | 第44-45页 |
·K12 菌在铁离子充足条件下培养对 OmpW 蛋白的影响 | 第45页 |
·K12 菌在 H_2O_2氧化应激条件下对 OmpW 蛋白的影响 | 第45页 |
3 结果 | 第45-47页 |
·K12 菌在铁离子限制的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响 | 第45-46页 |
·K12 菌在铁离子充足的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响 | 第46页 |
·K12 菌在 H_2O_2氧化应激条件下对 OmpW 蛋白的影响 | 第46-47页 |
4 讨论 | 第47-48页 |
第五章 结论与展望 | 第48-49页 |
1. 结论 | 第48页 |
2. 展望 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-55页 |
附录 | 第55-56页 |
1. 培养基和主要溶液的配制 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
发表论文情况 | 第57页 |