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铁离子调节革兰氏阴性菌外膜蛋白OmpW抗宿主氧化应激作用及机制的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
缩略表第10-11页
第一章 绪论第11-21页
 1. 研究背景第11-20页
   ·革兰氏阴性菌的危害第11-12页
   ·革兰氏阴性菌特点第12-13页
   ·外膜蛋白研究的必要性第13-15页
   ·外膜蛋白 OmpW 重要性第15-16页
   ·铁离子重要性和活性氧稳态的意义第16页
   ·铁代谢失衡和活性氧水平异常的危害第16-17页
   ·铁离子、外膜蛋白与氧化应激的关系第17-18页
   ·细菌适应并耐受应激的机制第18-20页
 2. 研究的目的和意义第20-21页
第二章 外膜上高表达菌株的获得第21-33页
 1. 前言第21-22页
 2. 材料、试剂和方法第22-28页
   ·材料试剂第22-24页
   ·主要仪器设备第24-25页
   ·外膜上高表达菌株的获得第25-27页
     ·构建重组载体第25-26页
     ·转化第26-27页
   ·抗血清的制备第27-28页
     ·胞浆高表达菌株的获得第27页
     ·OmpW 蛋白纯化、免疫及抗血清的获得第27-28页
   ·外膜上高表达菌株的验证第28页
     ·提取外膜蛋白 OmpW第28页
     ·Western blot第28页
 3. 结果第28-31页
   ·外膜上高表达菌株的获得第28-29页
     ·基因的克隆、转化及蛋白的表达第28-29页
   ·抗血清的制备第29-30页
   ·Western blot 证实 OM-OmpW 的 OmpW 在外膜上高表达第30-31页
 4. 讨论第31-33页
第三章 氧化应激条件下细菌存活率差异分析第33-44页
 1. 前言第33-34页
 2 材料、试剂和方法第34-37页
   ·材料试剂第34页
   ·生长曲线的测定第34-35页
   ·正常培养的细菌氧化应激条件下的存活率第35-36页
   ·铁离子限制和氧化应激条件下细菌的存活率第36页
   ·铁离子限制条件下培养 K12 菌的存活率第36-37页
   ·细菌对铁离子的摄取第37页
 3. 结果第37-43页
   ·生长曲线的测定第37-38页
   ·正常培养的细菌氧化应激条件下的存活率第38-39页
   ·铁离子限制和氧化应激条件下细菌的存活率第39-40页
   ·铁离子限制培养 K12 菌的存活率第40-41页
   ·细菌对铁离子的摄取第41-43页
 4. 讨论第43-44页
第四章 铁离子或氧化应激条件对 OmpW 表达的影响第44-48页
 1. 前言第44页
 2. 材料、试剂和方法第44-45页
   ·所用试剂、仪器及溶液配制第44页
   ·K12 菌在铁离子限制的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响第44-45页
   ·K12 菌在铁离子充足条件下培养对 OmpW 蛋白的影响第45页
   ·K12 菌在 H_2O_2氧化应激条件下对 OmpW 蛋白的影响第45页
 3 结果第45-47页
   ·K12 菌在铁离子限制的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响第45-46页
   ·K12 菌在铁离子充足的条件下培养对 OmpW 蛋白的影响第46页
   ·K12 菌在 H_2O_2氧化应激条件下对 OmpW 蛋白的影响第46-47页
 4 讨论第47-48页
第五章 结论与展望第48-49页
 1. 结论第48页
 2. 展望第48-49页
参考文献第49-55页
附录第55-56页
 1. 培养基和主要溶液的配制第55-56页
致谢第56-57页
发表论文情况第57页

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