致谢 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 绪论 | 第15-30页 |
1.1 引言 | 第15页 |
1.2 半导体光催化的基本原理 | 第15-16页 |
1.3 影响半导体光催化剂活性的因素 | 第16-20页 |
1.3.1 半导体本身性质的影响 | 第17-18页 |
1.3.2 反应条件的影响 | 第18-20页 |
1.4 提高光催化性能的方法 | 第20-23页 |
1.4.1 金属离子掺杂 | 第20页 |
1.4.2 非金属离子掺杂 | 第20页 |
1.4.3 半导体复合材料 | 第20-23页 |
1.5 新型光催化剂——四氧化三锡及复合材料的研究进展 | 第23-27页 |
1.6 本课题的研究目的和主要研究内容 | 第27-30页 |
2 多级结构Si掺杂的Sn_3O_4纳米花的制备及其光催化性能 | 第30-43页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 实验部分 | 第30-33页 |
2.2.1 实验试剂 | 第30-31页 |
2.2.2 多级结构Si掺杂的Sn_3O_4纳米花的制备 | 第31页 |
2.2.3 表征方法 | 第31-32页 |
2.2.4 光催化性能测试 | 第32-33页 |
2.3 实验结果与讨论 | 第33-41页 |
2.3.1 XRD分析 | 第33-34页 |
2.3.2 Raman光谱分析 | 第34-35页 |
2.3.3 比表面积及孔径分析 | 第35页 |
2.3.4 UV-vis漫反射光谱分析 | 第35-37页 |
2.3.5 EDS与XPS分析 | 第37-38页 |
2.3.6 SEM和TEM分析 | 第38-40页 |
2.3.7 可见光下光催化活性分析 | 第40-41页 |
2.4 机理研究 | 第41-42页 |
2.5 本章小结 | 第42-43页 |
3 TiO_2/Sn_3O_4异质结纳米球的制备及其紫外、可见光催化性能 | 第43-58页 |
3.1 引言 | 第43-44页 |
3.2 实验部分 | 第44-47页 |
3.2.1 实验试剂 | 第44-45页 |
3.2.2 实验步骤 | 第45页 |
3.2.3 表征方法 | 第45-46页 |
3.2.4 光催化性能测试 | 第46-47页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第47-56页 |
3.3.1 XRD分析 | 第47-48页 |
3.3.2 Raman光谱分析 | 第48-49页 |
3.3.3 比表面积及孔径分析 | 第49-50页 |
3.3.4 UV-vis漫反射光谱分析 | 第50-51页 |
3.3.5 XPS分析 | 第51-53页 |
3.3.6 SEM和TEM分析 | 第53-54页 |
3.3.7 紫外和可见光下光催化活性分析 | 第54-56页 |
3.4 机理研究 | 第56-57页 |
3.5 本章小结 | 第57-58页 |
4 Sn_3O_4/BiOX (X=Cl,Br,I)纳米复合材料的制备及其光催化性能研究 | 第58-83页 |
4.1 引言 | 第58-60页 |
4.2 实验部分 | 第60-64页 |
4.2.1 实验试剂和仪器 | 第60-61页 |
4.2.2 实验步骤 | 第61-62页 |
4.2.3 表征方法 | 第62页 |
4.2.4 光催化性能测试 | 第62页 |
4.2.5 活性物种的检测 | 第62-63页 |
4.2.6 电化学性能测试 | 第63-64页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第64-78页 |
4.3.1 XRD分析 | 第64-65页 |
4.3.2 Raman光谱分析 | 第65-66页 |
4.3.3 UV-vis漫反射光谱分析 | 第66-67页 |
4.3.4 比表面积及孔径分析 | 第67-69页 |
4.3.5 XPS分析 | 第69-70页 |
4.3.6 SEM和TEM分析 | 第70-72页 |
4.3.7 光催化性能 | 第72-78页 |
4.4 机理研究 | 第78-82页 |
4.5 本章小结 | 第82-83页 |
5 结论与展望 | 第83-86页 |
5.1 结论 | 第83-84页 |
5.2 论文的主要创新点 | 第84-85页 |
5.3 展望 | 第85-86页 |
附图 | 第86-90页 |
参考文献 | 第90-107页 |
作者简历及在学研究成果 | 第107-111页 |
学位论文数据集 | 第111页 |