| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第10-40页 |
| 1.1 铁电性、磁性及磁存储技术 | 第10-16页 |
| 1.1.1 铁电性 | 第10-11页 |
| 1.1.2 物质磁性及分类 | 第11-14页 |
| 1.1.3 磁性存储技术 | 第14-16页 |
| 1.2 多铁性材料及电场调控磁性 | 第16-20页 |
| 1.2.1 多铁性材料的定义、特点及发展历史 | 第16-17页 |
| 1.2.2 多铁性材料的分类 | 第17-18页 |
| 1.2.3 多铁异质结中电场调控磁性机制的分类 | 第18-20页 |
| 1.2.4 多铁异质结中基于应变机制实现电场调控磁性的研究现状 | 第20页 |
| 1.3 垂直磁各向异性 | 第20-30页 |
| 1.3.1 垂直磁各向异性在信息存储中的重要性 | 第20-21页 |
| 1.3.2 体和界面磁各向异性 | 第21-28页 |
| 1.3.3 体和界面磁各向异性的影响因素 | 第28-29页 |
| 1.3.4 垂直磁各向异性的起源与分类 | 第29-30页 |
| 1.4 自旋重取向转变 | 第30-33页 |
| 1.4.1 自旋重取向转变的定义 | 第30页 |
| 1.4.2 自旋重取向相图及影响因素 | 第30-33页 |
| 1.5 铁磁/铁电异质结中电场调控垂直及界面磁各向异性 | 第33-38页 |
| 1.5.1 铁磁/铁电异质结中电场调控垂直磁各向异性的研究现状 | 第33-37页 |
| 1.5.2 电场调控界面磁各向异性的重要意义 | 第37-38页 |
| 1.6 本论文选题思路 | 第38-40页 |
| 第2章 实验方法 | 第40-50页 |
| 2.1 样品制备：磁控溅射镀膜技术 | 第40-41页 |
| 2.2 物性表征技术 | 第41-50页 |
| 2.2.1 X射线衍射技术 | 第41-42页 |
| 2.2.2 扫描透射电子显微镜 | 第42-43页 |
| 2.2.3 电滞回线及应变测量技术 | 第43-45页 |
| 2.2.4 磁性测量系统 | 第45-46页 |
| 2.2.5 铁磁共振系统 | 第46-48页 |
| 2.2.6 磁力显微镜 | 第48-50页 |
| 第3章 (Co/Pt)_3/PMN-PT(011)异质结中电场对自旋重取向及界面磁各向异性的调控 | 第50-75页 |
| 3.1 引言 | 第50-52页 |
| 3.2 样品制备及基本性能表征 | 第52-56页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第52-53页 |
| 3.2.2 结构表征 | 第53-55页 |
| 3.2.3 铁电和应变性能表征 | 第55-56页 |
| 3.3 电场对(Co/Pt)_3多层膜自旋重取向转变的调控 | 第56-68页 |
| 3.3.1 不同Co层厚度样品磁各向异性的表征及分析 | 第56-59页 |
| 3.3.2 电场调控自旋重取向转变的实验现象 | 第59-63页 |
| 3.3.3 电场对自旋重取向转变的定量分析 | 第63-68页 |
| 3.4 电场对(Co/Pt)_3多层膜界面和体磁各向异性的调控 | 第68-74页 |
| 3.4.1 厚度和电场调控自旋重取向转变的比较 | 第68页 |
| 3.4.2 电场调控界面和体磁各向异性 | 第68-70页 |
| 3.4.3 加电场情况下线性拟合的可行性分析 | 第70-71页 |
| 3.4.4 电场对界面磁各向异性调控的机理 | 第71-73页 |
| 3.4.5 电场对体磁各向异性调控的机理 | 第73-74页 |
| 3.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 第4章 电场对共存相样品磁性的调控 | 第75-86页 |
| 4.1 引言 | 第75-76页 |
| 4.2 电场对1.4nm样品剩余磁化强度的调控 | 第76-79页 |
| 4.3 电场对1.35和1.45nm样品剩余磁化强度的调控 | 第79-82页 |
| 4.3.1 电场对1.35nm样品剩余磁化强度的调控 | 第79-81页 |
| 4.3.2 电场对1.45nm样品剩余磁化强度的调控 | 第81-82页 |
| 4.4 磁场辅助下电场调控磁性行为的机理 | 第82-83页 |
| 4.5 电场对微观磁畴的调控行为 | 第83-85页 |
| 4.6 本章小结 | 第85-86页 |
| 第5章 总结与展望 | 第86-88页 |
| 5.1 研究总结 | 第86-87页 |
| 5.2 展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-98页 |
| 致谢 | 第98-100页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第100页 |
