基于ARM的纳米孔单分子检测系统设计
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 课题提出背景与研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 研究现状及发展趋势 | 第12-14页 |
| 1.3 课题的主要研究内容 | 第14-15页 |
| 1.4 论文的主要结构 | 第15-17页 |
| 第2章 系统总体方案设计 | 第17-25页 |
| 2.1 纳米孔单分子检测技术 | 第17-19页 |
| 2.1.1 库尔特计数器 | 第17-18页 |
| 2.1.2 纳米孔穿孔事件检测的相关参数 | 第18-19页 |
| 2.2 检测系统设计方案 | 第19-23页 |
| 2.2.1 待测信号的参数特点 | 第19-22页 |
| 2.2.2 系统硬件部分设计方案 | 第22页 |
| 2.2.3 系统软件部分设计方案 | 第22-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 检测系统硬件设计 | 第25-41页 |
| 3.1 主控芯片 | 第25-27页 |
| 3.1.1 选型依据 | 第25-26页 |
| 3.1.2 LPC1758特性分析 | 第26-27页 |
| 3.2 最小系统设计 | 第27-29页 |
| 3.2.1 复位电路 | 第27-28页 |
| 3.2.2 时钟电路 | 第28-29页 |
| 3.2.3 JTAG接口电路 | 第29页 |
| 3.2.4 芯片电源需求 | 第29页 |
| 3.3 电源系统设计 | 第29-32页 |
| 3.4 放大与滤波电路设计 | 第32-33页 |
| 3.5 激励信号电路设计 | 第33-34页 |
| 3.6 片上A/D与D/A电路设计 | 第34-35页 |
| 3.7 USB 设备电路设计 | 第35-38页 |
| 3.8 PCB 设计 | 第38-39页 |
| 3.9 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 检测装置软件设计 | 第41-51页 |
| 4.1 软件开发环境 | 第41页 |
| 4.2 硬件电路初始化 | 第41-43页 |
| 4.3 A/D采样和D/A输出 | 第43-46页 |
| 4.3.1 A/D 采样 | 第43-44页 |
| 4.3.2 D/A 输出 | 第44-46页 |
| 4.4 数字滤波 | 第46-47页 |
| 4.5 纳米孔刻蚀监控软件 | 第47页 |
| 4.6 USB通信设计 | 第47-49页 |
| 4.6.1 配置USB | 第47-48页 |
| 4.6.2 USB接收指令 | 第48-49页 |
| 4.6.3 USB发送数据 | 第49页 |
| 4.7 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 上位机软件设计 | 第51-61页 |
| 5.1 上位机软件开发环境 | 第51-52页 |
| 5.2 硬件电路与上位机的USB通信 | 第52-54页 |
| 5.2.1 NI-VISA 驱动 | 第52-54页 |
| 5.2.2 USB通信测试 | 第54页 |
| 5.3 上位机软件设计任务 | 第54-58页 |
| 5.3.1 发送指令 | 第55-56页 |
| 5.3.2 接收数据 | 第56页 |
| 5.3.3 数据处理 | 第56-58页 |
| 5.3.4 数据存储 | 第58页 |
| 5.4 上位机软件界面 | 第58-59页 |
| 5.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第6章 检测系统校准及测试 | 第61-67页 |
| 6.1 检测系统校准过程 | 第61-63页 |
| 6.2 检测系统实验应用 | 第63-65页 |
| 6.2.1 刻蚀过程监控 | 第63-64页 |
| 6.2.2 刻蚀孔电阻测量 | 第64页 |
| 6.2.3 单分子过孔模拟 | 第64-65页 |
| 6.3 测量影响因素分析 | 第65页 |
| 6.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第7章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 7.1 结论 | 第67页 |
| 7.2 展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
