| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 引言 | 第8-10页 |
| 1.1.1 自旋电子学简介 | 第8-9页 |
| 1.1.2 磁性及磁性材料 | 第9-10页 |
| 1.1.3 磁性薄膜材料 | 第10页 |
| 1.2 研究背景 | 第10-13页 |
| 1.2.1 霍尔效应的发现 | 第10-12页 |
| 1.2.2 反常霍尔效应的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 论文选题意义以及研究内容 | 第13-15页 |
| 1.3.1 论文选题意义 | 第13页 |
| 1.3.2 本文研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 反常霍尔效应理论以及电输运理论 | 第15-24页 |
| 2.1 反常霍尔效应的理论研究 | 第15-18页 |
| 2.1.1 Karplus和Luttinger本征机制 | 第15-16页 |
| 2.1.2 Smit的skew scattering理论 | 第16页 |
| 2.1.3 Side Jump机制 | 第16-18页 |
| 2.2 薄膜系统的电输运理论 | 第18-23页 |
| 2.2.1 金属和绝缘体的微观理论解释 | 第18页 |
| 2.2.2 无序引起的Anderson转变和弱局域化效应 | 第18-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 磁性薄膜材料的制备和物性表征方法 | 第24-32页 |
| 3.1 薄膜样品的制备方法 | 第24-28页 |
| 3.1.1 真空技术 | 第24-25页 |
| 3.1.2 磁控溅射镀膜技术的发展及原理 | 第25-27页 |
| 3.1.3 磁控溅射的工艺流程 | 第27-28页 |
| 3.2 结构、成份及物理性质的测量 | 第28-30页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD) | 第28-30页 |
| 3.2.2 超导量子干涉仪（SQUID） | 第30页 |
| 3.2.3 物理性质测量系统（PPMS） | 第30页 |
| 3.3 本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 氮化铁薄膜中反常霍尔效应的研究 | 第32-40页 |
| 4.1 样品的制备和测试 | 第32-33页 |
| 4.2 氮化铁薄膜的XRD分析 | 第33-34页 |
| 4.3 氮化铁薄膜的反常霍尔机制 | 第34-38页 |
| 4.3.1 霍尔电阻与温度的关系 | 第34-36页 |
| 4.3.2 氮化铁薄膜中的反常霍尔效应机制 | 第36-38页 |
| 4.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第五章 CoCrPt薄膜磁特性和反常霍尔效应的研究 | 第40-50页 |
| 5.1 样品的制备和测试 | 第40-42页 |
| 5.2 Cu衬底层对CoCrPt薄膜磁特性的影响 | 第42-46页 |
| 5.2.1 晶体结构 | 第42-43页 |
| 5.2.2 CoCrPt薄膜磁特性研究 | 第43-46页 |
| 5.3 Cu衬底层对CoCrPt薄膜反常霍尔效应的影响 | 第46-48页 |
| 5.3.1 霍尔电阻率与温度的关系 | 第46-47页 |
| 5.3.2 CoCrPt薄膜中反常霍尔机制 | 第47-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 附录1攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
