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考虑量子效应的场效应晶体管电学特性的研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第8-19页
    1.1 场效应晶体管的发展与背景第8-13页
        1.1.1 MOSFET器件的发展以及尺寸与工艺第8-11页
        1.1.2 典型的小尺寸的MOSFET第11-13页
    1.2 MOSFET量子效应的研究情况第13-16页
    1.3 二维电子气的其它研究以及前沿第16-18页
    1.4 本文的主要工作第18-19页
第二章 二维电子气的研究第19-42页
    2.1 MOS硅栅中的二维电子气特性第19-20页
    2.2 二维电子气的一些近似方法第20-29页
        2.2.1 Stern的解析波函数第21-24页
        2.2.2 Grinberg的解析波函数第24-29页
    2.3 新的自洽波函数第29-40页
        2.3.1 解析波函数的推导第29-34页
        2.3.2 结果与讨论第34-40页
    2.4 总结第40-42页
第三章 极薄氧化层MOSFET的电学特性第42-62页
    3.1 分区域的近似第42-43页
    3.2 矩形势的近似第43-49页
        3.2.1 非对称的矩形势近似第44-47页
        3.2.2 对称的矩形势近似第47-49页
    3.3 自洽的隧穿模型第49-61页
        3.3.1 有限势垒的修正以及平移波函数第51-53页
        3.3.2 数值结果与分析第53-57页
        3.3.3 应用到MOSFET器件第57-61页
    3.4 总结第61-62页
第四章 结论第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-70页
攻读硕士学位期间取得的成果第70-71页

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