| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-14页 |
| ·HfO_2和ZrO_2薄膜简介 | 第10-13页 |
| ·本文的研究内容和安排 | 第13-14页 |
| 第二章 脉冲激光沉积系统及HfO_2和ZrO_2薄膜的制备 | 第14-21页 |
| ·等离子体辅助反应脉冲激光沉积 | 第14-18页 |
| ·脉冲激光烧蚀 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第15-16页 |
| ·电子回旋共振微波放电 | 第16-18页 |
| ·等离子体辅助反应脉冲激光沉积 | 第18页 |
| ·薄膜的制备 | 第18-19页 |
| ·薄膜的表征 | 第19-21页 |
| 第三章 HfO_2和ZrO_2薄膜的结构与光学性质 | 第21-42页 |
| ·HfO_2薄膜的结构与光学性质 | 第21-31页 |
| ·HfO_2薄膜的原子力显微镜(AFM)形貌观察 | 第21-22页 |
| ·HfO_2薄膜的傅立叶转换红外光谱(FTIR)测量和分析 | 第22-25页 |
| ·HfO_2薄膜的椭圆偏振光谱测量和分析 | 第25-27页 |
| ·HfO_2薄膜的透射光谱测量和分析 | 第27-31页 |
| ·ZrO_2薄膜的结构与光学性质 | 第31-40页 |
| ·ZrO_2薄膜的Raman光谱和分析 | 第31-33页 |
| ·ZrO_2薄膜的傅立叶转换红外光谱(FTIR)测量和分析 | 第33-35页 |
| ·ZrO_2薄膜的椭圆偏振光谱测量和分析 | 第35-36页 |
| ·ZrO_2薄膜的透射光谱测量和分析 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 HfO_2和ZrO_2薄膜的电学性质 | 第42-53页 |
| ·HfO_2薄膜的电学性质 | 第43-48页 |
| ·HfO_2薄膜的C-V特性测量 | 第43-47页 |
| ·HfO_2薄膜的I-V特性测量 | 第47-48页 |
| ·ZrO_2薄膜的电学性质 | 第48-52页 |
| ·ZrO_2薄膜的C-V特性测量 | 第48-51页 |
| ·ZrO_2薄膜的C-V特性测量 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 后记 | 第61-62页 |
