Fe/Ni多层膜的结构与磁性研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 前言 | 第7-14页 |
·磁记录原理 | 第8-10页 |
·磁记录写入和读出的原理 | 第8-9页 |
·磁记录系统的主要构件 | 第9-10页 |
·纳米结构软磁材料的发展 | 第10-13页 |
·本论文的目的 | 第13-14页 |
第二章 薄膜的制备及表征 | 第14-28页 |
·磁控溅射的原理 | 第14-18页 |
·溅射原理 | 第14-17页 |
·本实验所用溅射系统简介 | 第17-18页 |
·溅射成膜的机理 | 第18-23页 |
·薄膜生长过程 | 第18-22页 |
·磁控溅射各参数对成膜的影响 | 第22-23页 |
·薄膜的表征 | 第23-28页 |
·原子力显微镜 | 第23-24页 |
·X射线衍射和反射方法 | 第24-26页 |
·振动样品磁强计 | 第26-28页 |
第三章 Fe/Ni多层膜的结构及磁性研究 | 第28-43页 |
·纳米结构软磁材料的两种理论模型 | 第28-32页 |
·随机各向异性模型 | 第28-30页 |
·层耦合模型 | 第30-32页 |
·Fe/Ni的生长结构 | 第32-34页 |
·Fe/Ni多层膜的磁性 | 第34-37页 |
·Fe/Ni层磁矩的取向 | 第34-35页 |
·Fe/Ni层间耦合 | 第35-37页 |
·Fe(或Ni)厚度变化对多层膜结构与磁性的影响 | 第37-41页 |
·Fe/Ni周期厚度改变 | 第37-39页 |
·Fe厚度改变 | 第39-41页 |
·Cu中间层对Fe/Ni多层膜磁性的影响 | 第41-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
第四章 界面粗糙度对Fe/Ni多层膜磁性的影响 | 第43-51页 |
·生长温度变化对Fe/Ni磁性的影响 | 第43-46页 |
·不同温度下制备的样品的粗糙度 | 第43-45页 |
·不同温度下制备的样品的磁性 | 第45-46页 |
·底层对Fe/Ni磁性的影响 | 第46-50页 |
·Ag层,Ta层的生长 | 第46-47页 |
·Ag/[Fe/Ni]_n的粗糙度分析 | 第47-49页 |
·Ag/[Fe/Ni]_n的磁性分析 | 第49-50页 |
·小结 | 第50-51页 |
第五章 总结与展望 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-56页 |
硕士期间已发表论文 | 第56-57页 |
致谢 | 第57-58页 |