摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-40页 |
1.1 混合气体中CO_2的脱除 | 第11-14页 |
1.1.1 脱除混合气体中CO_2的意义 | 第11-12页 |
1.1.1.1 空气中大量存在CO_2的危害性 | 第11页 |
1.1.1.2 CO_2分离/脱除的必要性 | 第11-12页 |
1.1.1.3 CO_2的开发与利用 | 第12页 |
1.1.2 混合气体中CO_2分离技术 | 第12-14页 |
1.2 SAPO-34分子筛 | 第14-31页 |
1.2.1 沸石分子筛简介 | 第14-15页 |
1.2.2 SAPO-34分子筛结构 | 第15页 |
1.2.3 SAPO-34分子筛的合成 | 第15-19页 |
1.2.4 SAPO-34分子筛微结构调控 | 第19-31页 |
1.3 分子筛膜概述 | 第31-39页 |
1.3.1 分子筛膜合成工艺 | 第31-33页 |
1.3.2 分子筛膜的缺陷 | 第33-34页 |
1.3.3 分子筛膜中模板剂脱除 | 第34-35页 |
1.3.4 分子筛膜混合气体分子膜分离 | 第35-39页 |
1.3.5 SAPO-34分子筛膜研究中存在的问题 | 第39页 |
1.4 课题研究内容和意义 | 第39-40页 |
第二章 实验部分 | 第40-51页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第40-42页 |
2.1.1 实验试剂 | 第40-41页 |
2.1.2 实验仪器和设备 | 第41-42页 |
2.2 实验设备 | 第42-44页 |
2.2.1 水热晶化釜 | 第42页 |
2.2.2 分子筛膜完备性检测装置 | 第42-43页 |
2.2.3 气体分离实验装置 | 第43-44页 |
2.3 样品表征方法 | 第44-46页 |
2.3.1 SEM和FE-SEM测试仪 | 第45页 |
2.3.2 X-射线衍射仪 | 第45-46页 |
2.3.3 电感耦合等离子发射光谱仪 | 第46页 |
2.3.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第46页 |
2.3.5 气相色谱 | 第46页 |
2.4 实验方法 | 第46-51页 |
2.4.1 a-Al_2O_3载体的制备和预处理 | 第46-47页 |
2.4.2 原位水热合成SAPO-34分子筛膜 | 第47页 |
2.4.3 SAPO-34分子筛晶体合成 | 第47-48页 |
2.4.4 SAPO-34晶种层的制备 | 第48页 |
2.4.5 二次生长法制备SAPO-34分子筛膜 | 第48页 |
2.4.6 SAPO-34分子筛膜致密性检验 | 第48-49页 |
2.4.7 SAPO-34分子筛膜活化 | 第49页 |
2.4.8 SAPO-34分子筛膜气体分离 | 第49-51页 |
第三章 原位水热法制备SAPO-34分子筛膜及CO_2/CH_4混合气体分离性能 | 第51-67页 |
3.1 引言 | 第51-54页 |
3.1.1 气体膜分离原理 | 第51-52页 |
3.1.2 气体分离性能表征 | 第52-53页 |
3.1.3 SAPO-34分子筛膜原位合成研究现状 | 第53-54页 |
3.2 SAPO-34分子筛膜合成 | 第54-63页 |
3.2.1 合成液pH值对制备SAPO-34分子筛膜的影响 | 第54-58页 |
3.2.2 水含量对制备SAPO-34分子筛膜的影响 | 第58-60页 |
3.2.3 合成温度对制备SAPO-34分子筛膜的影响 | 第60-62页 |
3.2.4 二次原位生长制备连续SAPO-34分子筛膜 | 第62-63页 |
3.3 SAPO-34分子筛膜活化 | 第63-65页 |
3.4 SAPO-34分子筛膜CO_2/CH_4分离 | 第65-66页 |
3.5 本章小结 | 第66-67页 |
第四章 二次生长法制备SAPO-34分子筛膜及CO_2/CH_4和N_2/CH_4混合气体分离性能 | 第67-95页 |
4.1 引言 | 第67-68页 |
4.2 SAPO-34分子筛晶体的合成 | 第68-77页 |
4.2.1 硅源对合成SAPO-34分子筛的影响 | 第68-70页 |
4.2.2 合成液pH值对合成SAPO-34分子筛的影响 | 第70-71页 |
4.2.3 加入晶种对合成SAPO-34分子筛的影响 | 第71-73页 |
4.2.4 微波辅助加热对合成SAPO-34分子筛的影响 | 第73-74页 |
4.2.5 SAPO-34分子筛晶体分离 | 第74-75页 |
4.2.6 SAPO-34分子筛脱除模板剂后的稳定性 | 第75-77页 |
4.3 二次生长法制备SAPO-34分子筛膜 | 第77-87页 |
4.3.1 SAPO-34分子筛晶种旋涂 | 第77-80页 |
4.3.2 二次生长法制备SAPO-34分子筛膜 | 第80-86页 |
4.3.3 二次生长法的成膜机理 | 第86-87页 |
4.4 SAPO-34分子筛膜活化 | 第87-89页 |
4.5 SAPO-34分子筛膜CO_2/CH_4气体分离 | 第89-92页 |
4.5.1 SAPO-34分子筛膜CO_2和CH_4单组分测试 | 第89-90页 |
4.5.2 CO_2/CH_4混合气体分离 | 第90-91页 |
4.5.3 分子筛膜两侧压差对CO_2/CH_4分离性能的影响 | 第91-92页 |
4.5.4 SAPO-34分子筛膜稳定性检测 | 第92页 |
4.6 SAPO-34分子筛膜N_2/CH_4气体分离 | 第92-94页 |
4.6.1 N_2/CH_4混合气体分离 | 第92-93页 |
4.6.2 N_2和CH_4单组分气体分离 | 第93页 |
4.6.3 分子筛膜两侧压差对N_2/CH_4分离性能的影响 | 第93-94页 |
4.7 本章小结 | 第94-95页 |
第五章 金属杂原子取代MeAPSO-34分子筛膜及CO_2/CH_4和N_2/CH_4混合气体分离性能 | 第95-116页 |
5.1 引言 | 第95-96页 |
5.2 MeAPSO-34分子筛的合成与表征 | 第96-103页 |
5.2.1 SAPO-34分子筛晶种层制备与表征 | 第96页 |
5.2.2 MeAPSO-34分子筛膜制备与表征 | 第96-100页 |
5.2.3 金属含量对MeAPSO-34分子筛膜的影响 | 第100-103页 |
5.3 MeAPSO-34分子筛膜活化 | 第103-104页 |
5.4 MeAPSO-34分子筛膜分离CO_2/CH_4 | 第104-111页 |
5.4.0 MeAPSO-34分子筛膜CO_2和CH_4单组分测试 | 第104-105页 |
5.4.1 CO_2/CH_4混合气体分离 | 第105-108页 |
5.4.2 分子筛膜两侧压差对CO_2/CH_4分离性能的影响 | 第108-109页 |
5.4.3 MeAPSO-34分子筛膜稳定性检测 | 第109-110页 |
5.4.4 讨论 | 第110-111页 |
5.5 MeAPSO-34分子筛膜N_2/CH_4气体分离 | 第111-115页 |
5.5.0 MeAPSO-34分子筛膜N_2和CH_4气体单组分测试 | 第111-112页 |
5.5.1 N_2/CH_4混合气体分离 | 第112-113页 |
5.5.2 分子筛膜两侧压差对N_2/CH_4分离性能的影响 | 第113-114页 |
5.5.3 讨论 | 第114-115页 |
5.6 本章小结 | 第115-116页 |
第六章 结论 | 第116-118页 |
参考文献 | 第118-129页 |
发表论文和科研情况说明 | 第129-130页 |
致谢 | 第130-131页 |