| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 铁电材料及其基本特性 | 第11-13页 |
| 1.2 铁电材料的类别 | 第13-15页 |
| 1.3 铁电薄膜材料的发展现状及应用 | 第15-17页 |
| 1.3.1 铁电薄膜材料的发展现状 | 第15-16页 |
| 1.3.2 铁电薄膜材料的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 BIT薄膜的改性研究 | 第17-19页 |
| 1.5 铁电薄膜的重要性能及机理 | 第19-20页 |
| 1.6 LNO电极的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.7 钙钛矿薄膜的制备方法 | 第21-24页 |
| 1.8 本课题研究的内容及意义 | 第24-27页 |
| 1.8.1 本课题的依据及意义 | 第24-25页 |
| 1.8.2 本课题研究的内容 | 第25-27页 |
| 第2章 薄膜样品的制备工艺、性能的测试及表征 | 第27-34页 |
| 2.1 实验材料 | 第27-28页 |
| 2.2 实验设备 | 第28页 |
| 2.3 Sol-Gel法制备薄膜的工艺 | 第28-31页 |
| 2.3.1 衬底的清洗工艺 | 第28页 |
| 2.3.2 LaNiO_3薄膜的制备工艺 | 第28-29页 |
| 2.3.3 Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜的制备工艺 | 第29-31页 |
| 2.4 LNO导电氧化物薄膜和BNT铁电薄膜的表征方法 | 第31-34页 |
| 2.4.1 薄膜的微观结构表征 | 第31-32页 |
| 2.4.2 薄膜的电性能表征 | 第32-34页 |
| 第3章 Sol-Gel法制备LNO薄膜结果与分析 | 第34-41页 |
| 3.1 不同退火温度对LNO薄膜晶体结构和电阻率的影响 | 第34-36页 |
| 3.1.1 LNO薄膜结晶性能分析 | 第34-35页 |
| 3.1.2 LNO薄膜电阻率分析 | 第35-36页 |
| 3.2 不同退火时间对LNO薄膜晶体结构和电阻率的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.1 对LNO薄膜结晶性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.2 对LNO薄膜电阻率的影响 | 第37-38页 |
| 3.3 LNO薄膜的表面形貌和粗糙度分析 | 第38-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 Sol-Gel法制备BNT/LNO/Si(100)铁电薄膜的结果与分析 | 第41-62页 |
| 4.1 退火温度对BNT/LNO/Si结构铁电薄膜性能的影响 | 第41-50页 |
| 4.1.1 对晶体结构的影响 | 第41-42页 |
| 4.1.2 对表面形貌和粗糙度的影响 | 第42-44页 |
| 4.1.3 对铁电性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.1.4 对漏电流的影响 | 第45-49页 |
| 4.1.5 对抗疲劳性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.2 退火方式对BNT/LNO/Si结构铁电薄膜性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.2.1 对晶体结构的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.2 对表面形貌的影响 | 第52页 |
| 4.2.3 对电学性能的影响 | 第52-54页 |
| 4.3 BNT/Pt/Si(100)电容结构与BNT/LNO/Si(100)电容结构性能分析 | 第54-60页 |
| 4.3.1 衬底Pt/Si(100)的制备 | 第54-55页 |
| 4.3.2 BNT/Pt/Si(100)与BNT/LNO/Si(100)结构铁电薄膜结晶性能分析 | 第55-56页 |
| 4.3.3 BNT/Pt/Si(100)与BNT/LNO/Si(100)结构铁电薄膜表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 4.3.4 BNT/Pt/Si(100)与BNT/LNO/Si(100)结构铁电薄膜铁电性能分析 | 第57-58页 |
| 4.3.5 BNT/Pt/Si(100)与BNT/LNO/Si(100)结构铁电薄膜抗疲劳性能分析 | 第58-59页 |
| 4.3.6 BNT/Pt/Si(100)与BNT/LNO/Si(100)结构铁电薄膜漏电流特性分析 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 Ni掺杂对Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜电性能的影响 | 第62-70页 |
| 5.1 Ni掺杂Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜的制备 | 第62-63页 |
| 5.1.1 Ni掺杂Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)溶胶的制备 | 第62-63页 |
| 5.1.2 BNN_xT铁电薄膜的制备 | 第63页 |
| 5.2 Ni掺杂Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜的结构及性能分析 | 第63-69页 |
| 5.2.1 不同Ni含量对BNN_xT/LNO/Si(100)薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| 5.2.2 不同Ni含量对BNN_xT/LNO/Si(100)薄膜表面形貌的影响 | 第64-65页 |
| 5.2.3 不同Ni含量对BNN_xT/LNO/Si(100)薄膜铁电性能的影响 | 第65-66页 |
| 5.2.4 不同Ni含量对BNN_xT/LNO/Si(100)薄膜漏电流的影响 | 第66-68页 |
| 5.2.5 不同Ni含量对BNN_xT/LNO/Si(100)薄膜疲劳性能的影响 | 第68-69页 |
| 5.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第6章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第78页 |
