| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化技术原理 | 第10-12页 |
| 1.3 Bi_2WO_6半导体催化剂 | 第12-17页 |
| 1.3.1 性质 | 第12-14页 |
| 1.3.2 制备 | 第14-16页 |
| 1.3.3 改性 | 第16-17页 |
| 1.4 金属二硫化物 | 第17-19页 |
| 1.5 研究的主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 3D柔性In_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的制备及光催化降解甲苯研究 | 第21-51页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-30页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.2.3 3D柔性In_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.4 In_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的形貌结构表征及组分分析 | 第24-26页 |
| 2.2.5 In_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的光学性能测试 | 第26页 |
| 2.2.6 In_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的电化学性能测试 | 第26-27页 |
| 2.2.7 构建气敏测试平台 | 第27-30页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第30-47页 |
| 2.3.1 XRD衍射谱分析 | 第30-31页 |
| 2.3.2 扫描电镜分析 | 第31-33页 |
| 2.3.3 透射电镜及能谱分析 | 第33-35页 |
| 2.3.4 XPS能谱分析 | 第35-36页 |
| 2.3.5 紫外-可见漫反射谱及荧光光谱分析 | 第36-37页 |
| 2.3.6 光电流及交流阻抗测试分析 | 第37-39页 |
| 2.3.7 光催化降解甲苯 | 第39-47页 |
| 2.4 光催化降解甲苯机理研究 | 第47-49页 |
| 2.4.1 半导体能带位置分析 | 第47-49页 |
| 2.4.2 光催化机理分析 | 第49页 |
| 2.5 小结 | 第49-51页 |
| 第三章 3D柔性Bi_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的制备及光催化降解苯研究 | 第51-69页 |
| 3.1 引言 | 第51-52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52-55页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第52页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第52-53页 |
| 3.2.3 3D柔性Bi_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的制备 | 第53-54页 |
| 3.2.4 Bi_2S_3/Bi_2WO_6/钨网的表征及光电性能检测 | 第54页 |
| 3.2.5 光催化降解苯实验设备及测试过程 | 第54-55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-67页 |
| 3.3.1 XRD衍射谱分析 | 第55-56页 |
| 3.3.2 Bi_2S_3/Bi_2WO_6形貌及形成机理分析 | 第56-58页 |
| 3.3.3 透射电镜及能谱分析 | 第58-60页 |
| 3.3.4 XPS能谱分析 | 第60-61页 |
| 3.3.5 光电性能分析 | 第61-63页 |
| 3.3.6 光催化降解苯性能研究 | 第63-67页 |
| 3.4 光催化机理分析 | 第67页 |
| 3.5 小结 | 第67-69页 |
| 第四章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 4.1 结论 | 第69-70页 |
| 4.2 展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 硕士期间发表的成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
