磁控溅射制备ZnO薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| §1.1 太阳电池概述 | 第8-11页 |
| §1.2 透明导电薄膜概述 | 第11-14页 |
| ·透明导电薄膜的研究状况 | 第11-12页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的种类 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜及其掺杂体系发展状况 | 第13-14页 |
| §1.3 本文研究内容及课题来源 | 第14-17页 |
| ·研究内容 | 第14-15页 |
| ·课题来源 | 第15页 |
| ·本文组织结构 | 第15-16页 |
| ·本文的创新点 | 第16-17页 |
| 第二章 ZnO的结构、性能及制备工艺 | 第17-23页 |
| §2.1 ZnO的结构和性能 | 第17-18页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第17页 |
| ·ZnO的光电性能 | 第17-18页 |
| §2.2 ZnO薄膜的制备工艺 | 第18-23页 |
| 第三章 ZnO实验及测试 | 第23-33页 |
| §3.1 ZnO实验 | 第23-27页 |
| ·ZnO实验设备 | 第23-25页 |
| ·ZnO实验材料 | 第25页 |
| ·ZnO实验流程 | 第25-27页 |
| §3.2 ZnO薄膜测试 | 第27-33页 |
| 第四章 ZnO制备条件及后处理对其性能的影响 | 第33-61页 |
| §4.1 基片温度对其性能的影响 | 第33-39页 |
| ·基片温度对其结构及表面形貌的影响 | 第33-36页 |
| ·基片温度对其光电性能的影响 | 第36-39页 |
| §4.2 溅射功率对其性能的影响 | 第39-43页 |
| ·溅射功率对其结构及表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·溅射功率对其光电性能的影响 | 第41-43页 |
| §4.3 溅射压强对其性能的影响 | 第43-49页 |
| ·溅射压强对其结构及表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·溅射压强对其光电性能的影响 | 第46-49页 |
| §4.4 退火温度对其性能的影响 | 第49-54页 |
| ·退火温度对其结构及表面形貌的影响 | 第49-52页 |
| ·退火温度对其光电性能的影响 | 第52-54页 |
| §4.5 退火时间对其性能的影响 | 第54-61页 |
| ·退火时间对其结构及表面形貌的影响 | 第55-58页 |
| ·退火时间对其光电性能的影响 | 第58-61页 |
| 第五章 结论与展望 | 第61-64页 |
| §5.1 结论 | 第61-63页 |
| §5.2 展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 硕士期间参与的研究课题 | 第70-71页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第71页 |
