摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第13-27页 |
1.1 半导体光催化机理 | 第13-15页 |
1.2 可见光响应型光催化材料 | 第15-18页 |
1.2.1 多元氧化物光催化材料 | 第15-16页 |
1.2.2 硫化物光催化材料 | 第16-17页 |
1.2.3 氮化物与氮氧化物光催化材料 | 第17页 |
1.2.4 聚合物(g-C_3N_4)光催化材料 | 第17-18页 |
1.3 g-C_3N_4的概述 | 第18-21页 |
1.3.1 g-C_3N_4的发展 | 第18页 |
1.3.2 g-C_3N_4的结构 | 第18-19页 |
1.3.3 g-C_3N_4的制备方法 | 第19-21页 |
1.4 g-C_3N_4的改性研究 | 第21-24页 |
1.4.1 半导体复合 | 第21-22页 |
1.4.2 化学掺杂 | 第22页 |
1.4.3 形貌控制 | 第22-24页 |
1.5 g-C_3N_4的应用 | 第24-25页 |
1.5.1 有机反应催化剂 | 第24页 |
1.5.2 氧还原催化剂 | 第24-25页 |
1.5.3 光催化剂 | 第25页 |
1.6 立题依据和研究方案 | 第25-27页 |
第二章 研究方案 | 第27-35页 |
2.1 实验设计 | 第27-30页 |
2.1.1 球磨细化g-C_3N_4制备思路 | 第27页 |
2.1.2 无模板法多孔g-C_3N_4制备思路 | 第27-29页 |
2.1.3 g-C_3N_4/BiOBr复合材料制备思路 | 第29-30页 |
2.2 测试表征方法 | 第30-35页 |
2.2.1 粒度分析 | 第30页 |
2.2.2 X射线衍射分析 | 第30页 |
2.2.3 傅里叶红外光谱测试 | 第30页 |
2.2.4 比表面积测试 | 第30页 |
2.2.5 扫描电镜测试 | 第30-31页 |
2.2.6 透射电镜测试 | 第31页 |
2.2.7 Zeta电位测试 | 第31页 |
2.2.8 电子顺磁共振测试 | 第31页 |
2.2.9 光电流测试 | 第31-32页 |
2.2.10 荧光发射光谱测试 | 第32页 |
2.2.11 紫外可见漫反射光谱测试 | 第32页 |
2.2.12 光催化性能测试 | 第32-35页 |
第三章 g-C_3N_4球磨预处理工艺研究 | 第35-51页 |
3.1 实验部分 | 第35-37页 |
3.1.1 实验原料 | 第35页 |
3.1.2 样品制备 | 第35-37页 |
3.2 结果与讨论 | 第37-49页 |
3.2.1 粒度分析 | 第37-44页 |
3.2.2 XRD物相分析 | 第44页 |
3.2.3 形貌分析 | 第44-45页 |
3.2.4 比表面积分析 | 第45-46页 |
3.2.5 光谱学分析 | 第46-48页 |
3.2.6 光催化性能分析 | 第48-49页 |
3.3 本章小结 | 第49-51页 |
第四章 无模板法制备多孔g-C_3N_4及其性能研究 | 第51-65页 |
4.1 实验部分 | 第51-52页 |
4.1.1 实验原料 | 第51页 |
4.1.2 样品制备 | 第51-52页 |
4.2 结果与讨论 | 第52-63页 |
4.2.1 结构分析 | 第52-54页 |
4.2.2 形貌分析 | 第54-56页 |
4.2.3 比表面积分析 | 第56-57页 |
4.2.4 光谱学分析 | 第57-60页 |
4.2.5 光电性能分析 | 第60-62页 |
4.2.6 光催化性能分析 | 第62-63页 |
4.3 本章小结 | 第63-65页 |
第五章 g-C_3N_4/BiOBr复合光催化材料制备及性能研究 | 第65-75页 |
5.1 实验部分 | 第65-66页 |
5.1.1 实验原料 | 第65-66页 |
5.1.2 样品制备 | 第66页 |
5.2 结果与讨论 | 第66-73页 |
5.2.1 结构分析 | 第66-67页 |
5.2.2 形貌分析 | 第67-69页 |
5.2.3 光谱学分析 | 第69-70页 |
5.2.4 光催化性能分析 | 第70-73页 |
5.3 本章小结 | 第73-75页 |
第六章 全文总结 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-87页 |
致谢 | 第87-89页 |
个人简历 | 第89-91页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第91页 |