| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·磷化铟简介 | 第9-12页 |
| ·磷化铟的基本性质 | 第9-11页 |
| ·磷化铟的应用 | 第11-12页 |
| ·化学配比 | 第12-13页 |
| ·磷化铟中的缺陷、杂质 | 第13-14页 |
| ·磷化铟国内外研究现状 | 第14-17页 |
| ·磷化铟国外研究现状 | 第14-16页 |
| ·磷化铟国内研究现状 | 第16-17页 |
| ·本课题的选题意义 | 第17页 |
| ·本论文的内容和结构安排 | 第17-19页 |
| 第二章 磷化铟的合成及生长 | 第19-29页 |
| ·磷化铟的合成 | 第19-23页 |
| ·溶质扩散法（SSD） | 第19-20页 |
| ·水平布里奇曼法（HB）和水平梯度凝固法（HGF） | 第20-21页 |
| ·直接合成法 | 第21-23页 |
| ·磷化铟的生长 | 第23-29页 |
| ·水平布里奇曼法（HB）/水平梯度凝固法（HGF） | 第23-24页 |
| ·垂直梯度凝固法(VGF)/垂直布里奇曼法(VB) | 第24-26页 |
| ·液封直拉法（LEC） | 第26-27页 |
| ·改进的液封直拉法 | 第27-28页 |
| ·压力控制液封直拉法 | 第28-29页 |
| 第三章 测试方法简介 | 第29-35页 |
| ·光致荧光谱技术（PL Mapping） | 第29-30页 |
| ·X射线衍射（XRD） | 第30-31页 |
| ·非接触电阻率测试 | 第31-32页 |
| ·霍尔效应（Hall）测试 | 第32-33页 |
| ·位错腐蚀 | 第33-35页 |
| 第四章 化学配比对掺硫磷化铟的影响研究 | 第35-41页 |
| ·样品制备 | 第35页 |
| ·化学配比对掺硫磷化铟中杂质、缺陷特性影响研究 | 第35-41页 |
| ·不同化学配比掺硫磷化铟PL Mapping测试结果及讨论 | 第35-38页 |
| ·XRD测试 | 第38-41页 |
| 第五章 化学配比对磷化铟中铁浓度分布及其他缺陷的影响 | 第41-51页 |
| ·材料制备 | 第41页 |
| ·掺铁磷化铟样品测试及讨论 | 第41-51页 |
| ·掺铁磷化铟的光学特性 | 第41-44页 |
| ·掺铁磷化铟的结构特性 | 第44-46页 |
| ·掺铁磷化铟的电学特性 | 第46-49页 |
| ·掺铁磷化铟中的位错腐蚀 | 第49-51页 |
| 第六章 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
