可见光光学系统杂光分析及抑制
| 致谢 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 引言 | 第9-13页 |
| ·课题背景和意义 | 第9-10页 |
| ·本学科领域发展现状 | 第10-11页 |
| ·国外发展动态 | 第10页 |
| ·国内发展动态 | 第10-11页 |
| ·本文主要研究内容 | 第11-12页 |
| ·本章小结 | 第12-13页 |
| 2 杂散光基础理论分析 | 第13-25页 |
| ·杂散辐射基础理论 | 第13-16页 |
| ·散射理论 | 第13-15页 |
| ·衍射理论 | 第15-16页 |
| ·辐射传导理论 | 第16页 |
| ·杂光水平评价方法 | 第16-18页 |
| ·杂光系数 | 第16-17页 |
| ·点源透过率PST | 第17页 |
| ·其他形式的点源透过率 | 第17-18页 |
| ·杂散光抑制原则 | 第18-20页 |
| ·杂散光分析适用范围 | 第18-19页 |
| ·杂散光抑制结果原则 | 第19-20页 |
| ·杂散光抑制方法 | 第20-24页 |
| ·光学方面杂散光抑制 | 第20-22页 |
| ·机械结构方面杂散光抑制 | 第22-23页 |
| ·表面特性 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 杂散光分析及验证 | 第25-45页 |
| ·三维建模 | 第26-27页 |
| ·确定散射路径 | 第27-28页 |
| ·重点采样及相关设置 | 第28-31页 |
| ·光斑分析 | 第31-43页 |
| ·确定杂散源 | 第31-32页 |
| ·杂散光斑分析 | 第32-37页 |
| ·光斑实验测试及计算 | 第37-38页 |
| ·结构改进 | 第38-39页 |
| ·结构改进后分析及测试 | 第39-43页 |
| ·分析结果及结论 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 光机系统优化分析设计 | 第45-62页 |
| ·变密度盘 | 第45-51页 |
| ·变密度盘后置 | 第46-48页 |
| ·变密度盘前置 | 第48-51页 |
| ·视场光阑 | 第51-55页 |
| ·无视场光阑 | 第51-53页 |
| ·有视场光阑 | 第53-55页 |
| ·遮光结构 | 第55-60页 |
| ·外遮光罩 | 第55-56页 |
| ·挡光环 | 第56-58页 |
| ·内遮光罩 | 第58-60页 |
| ·消光漆 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 5 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·本文主要工作及成果 | 第62-63页 |
| ·今后工作的展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 作者简历及在学期间的发表的学术论文与研究成果 | 第67-6页 |
