首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--光电子技术、激光技术论文--激光技术、微波激射技术论文--激光材料及工作物质论文

PWG玻璃陶瓷中的局域效应研究

1.中文摘要第1-5页
2.英文摘要第5-7页
第一章 引言第7-14页
 参考文献第12-14页
第二章 光散射的量子基本概念第14-28页
 2.1 跃迁几率第14页
 2.2 跃迁极化率第14-15页
 2.3 一级喇曼散射的温度影响第15-16页
 2.4 波矢关系第16页
 2.5 与对称性有关的基本晶格振动模的选择定则第16-21页
 2.6 玻璃及玻璃陶瓷物质的喇曼散射第21-22页
 2.7 三维杂质缺陷晶格振动问题第22-27页
 参考文献第27-28页
第三章 喇曼散射实验第28-35页
 3.1 实验装置概述第28-30页
 3.2 喇曼散射实验的几何配置第30-33页
 3.3 实验中所用高、低温实验系统第33页
 3.4 高压实验装置第33-34页
 参考文献第34-35页
第四章 PWG玻璃陶瓷材料的实验室制备第35-41页
 4.1 玻璃陶瓷材料学科发展趋势第35-36页
 4.2 玻璃的形成与晶化第36-38页
 4.3 PWG玻璃陶瓷的组分和制备第38-40页
 参考文献第40-41页
第五章 PWG玻璃陶瓷中喇曼耦合系数对喇曼散射的影响第41-49页
 小结第46-47页
 参考文献第47-49页
第六章 掺杂及未掺杂的PWG玻璃陶瓷喇曼光谱第49-61页
 6.1 未掺杂的PWG玻璃陶瓷喇曼光谱第49-52页
 6.2 掺杂的PWG玻璃陶瓷喇曼光谱第52-54页
 6.3未掺杂及掺杂的PWG玻璃陶瓷的显微喇曼光谱和偏振喇曼光谱第54-56页
 6.4 PWG:Yb~(3+),Tm~(3+)二中微晶晶格振动模的归属第56-59页
 小结第59-60页
 参考文献第60-61页
第七章 PWG玻璃陶瓷中的Yb~(3+)和Tm~(3+)离子的局域效应及其引起的相变第61-86页
 7.1 PWG中Yb~(3+)和Tm~(3+)离子的局域效应第61-66页
 7.2 PWG中WO_3分子与水分子的相互作用第66-70页
 7.3 低温对PWG:Yb~(3+),Tm~(3+)喇曼光谱的影响第70-75页
 7.4 PWG:Yb~(3+),Tm~(3+)中有序到无序相变的喇曼强度临界效应第75-80页
 7.5 高压对PWG:Yb~(3+),Tm~(3+)的喇曼活性模的影响第80-84页
 小结第84-85页
 参考文献第85-86页
结论第86-88页
工作简历第88-89页
在博期间工作第89-90页
在博期间发表的论文第90-92页
致谢第92页

论文共92页,点击 下载论文
上一篇:大行程亚微米精度激光直写设备定位技术的研究
下一篇:高品质a-Si:H TFT-LCD阵列设计与工艺研究