大行程亚微米精度激光直写设备定位技术的研究
| 第一章 绪论 | 第1-22页 |
| 1．1 课题来源及研究的意义 | 第11-14页 |
| 1．1．1 课题来源 | 第11页 |
| 1．1．2 研究的意义 | 第11-14页 |
| 1．2 激光直接写入设备的主要作用及性能要求 | 第14页 |
| 1．3 激光直接写入设备的主要技术指标要求 | 第14-16页 |
| 1．4 激光直写设备各分系统组成与工作原理 | 第16-18页 |
| 1．5 直写设备的软件系统 | 第18-19页 |
| 1．6 激光直写控制系统中的关键技术 | 第19-20页 |
| 1．7 本文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 激光直写设备数控系统 | 第22-33页 |
| 2．1 激光直写设备控制系统综述 | 第22-23页 |
| 2．2 激光直写设备数控系统的结构及工作原理 | 第23-25页 |
| 2．3 二元光学元件激光直写设备工作方式 | 第25-27页 |
| 2．4 刻划程序的编制 | 第27-28页 |
| 2．5 插补方法与原理 | 第28-32页 |
| 2．5．1 直线插补 | 第28-29页 |
| 2．5．2 圆弧插补原理 | 第29-32页 |
| 2．6 设备运动方式及误差 | 第32页 |
| 2．7 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 压电式微定位系统设计。 | 第33-47页 |
| 3．1 精密定位与直写设备的要求。 | 第33页 |
| 3．2 压电元件的特性 | 第33-37页 |
| 3．3 改善压电陶瓷迟滞非线性特性的方法 | 第37页 |
| 3．4 电荷控制 | 第37-39页 |
| 3．5 压电陶瓷的传递函数 | 第39-40页 |
| 3．6 激光直写设备中微位移系统 | 第40-46页 |
| 3．6．1 定位系统的负载特性 | 第40-41页 |
| 3．6．2 微位移系统的控制方法 | 第41-42页 |
| 3．6．3 微定位系统的静态特性 | 第42-43页 |
| 3．6．4 激光直写设备微定位系统动态特性 | 第43-44页 |
| 3．6．5 测试结果 | 第44-46页 |
| 3．7 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 大行程单自由度精密定位 | 第47-57页 |
| 4．1 温度因素的补偿 | 第47-48页 |
| 4．2 光栅尺刻线误差的补偿 | 第48-50页 |
| 4．3 光栅尺安装误差 | 第50-52页 |
| 4．4 定位控制器 | 第52-53页 |
| 4．5 三轴定位测试结果 | 第53-56页 |
| 4．5．1 微位移测试 | 第53页 |
| 4．5．2 绝对定位测试 | 第53-56页 |
| 4．6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 高精度空间点定位与动态精度 | 第57-71页 |
| 5．1 导轨直线性及检测方法 | 第57-60页 |
| 5．2 导轨垂直度误差及检测 | 第60-63页 |
| 5．3 空间定位与导轨误差补偿 | 第63-66页 |
| 5．4 动态精度的提高 | 第66-67页 |
| 5．5 补偿后检测结果 | 第67-70页 |
| 5．6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 刻划点定位的初步分析 | 第71-82页 |
| 6．1 被刻面的调平方法 | 第71-73页 |
| 6．1．1 被刻面倾斜引起的定位误差 | 第71-72页 |
| 6．1．2 被刻面调平方法选择 | 第72-73页 |
| 6．2 解藕控制 | 第73-77页 |
| 6．2．1 解藕控制原理 | 第73-76页 |
| 6．2．2 静态解藕 | 第76-77页 |
| 6．3 被刻面调平解藕 | 第77-80页 |
| 6．3．1 被刻面调平解藕控制模型 | 第77-78页 |
| 6．3．2 调平解藕控制算法 | 第78-79页 |
| 6．3．3 调平解藕矩阵 | 第79页 |
| 6．3．4 调平解藕实现的步骤 | 第79-80页 |
| 6．4 光斑半径补偿 | 第80-81页 |
| 6．5 本章小结 | 第81-82页 |
| 第七章 结束语 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 博士期间发表论文情况 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
