| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 引言 | 第9-12页 |
| 参考文献 | 第10-12页 |
| 第一章 综述 | 第12-23页 |
| ·ZnO基本性质 | 第12-16页 |
| ·ZnO薄膜的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO薄膜缺陷能级 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO基稀磁半导体 | 第16页 |
| ·ZnMgO薄膜的研究现状 | 第16-19页 |
| ·ZnMgO带隙变化的微观机理 | 第16-17页 |
| ·ZnMgO薄膜研究 | 第17-19页 |
| ·本论文的主要内容 | 第19-20页 |
| 本章参考文献 | 第20-23页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备及表征方法 | 第23-34页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第23-26页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第23-25页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第25-26页 |
| ·磁控溅射 | 第26页 |
| ·样品的分析与表征手段 | 第26-32页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第27-28页 |
| ·光学特性分析 | 第28-29页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第29-30页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第30页 |
| ·傅立叶变换红外光谱仪 | 第30-31页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第31-32页 |
| 本章参考文献 | 第32-34页 |
| 第三章 样品制备和实验过程 | 第34-39页 |
| ·PLD-450型高真空脉冲激光沉积系统简介 | 第34-36页 |
| ·实验方法 | 第36-38页 |
| ·靶材的制备 | 第36-37页 |
| ·靶材的表征 | 第37页 |
| ·PLD技术制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的实验过程 | 第37-38页 |
| ·样品的表征 | 第38-39页 |
| 第四章 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜制备工艺及对结构和性能的影响 | 第39-54页 |
| ·Mg含量对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜结构特征的影响 | 第39-41页 |
| ·Mg含量对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜磁性的影响 | 第41-42页 |
| ·氧分压对Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜结构的影响 | 第42-44页 |
| ·氧分压对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜磁性的影响 | 第44-45页 |
| ·退火温度对Zn_(1-x)Mg_xO薄膜磁性的影响 | 第45-46页 |
| ·(Co,Mg):ZnO薄膜的磁性研究 | 第46-48页 |
| ·(Co,Mg):ZnO薄膜的发光特性研究 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 本章参考文献 | 第51-54页 |
| 第五章 N:Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜特性研究 | 第54-63页 |
| ·氮分压对Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·氮分压对Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜发光性能影响 | 第56-58页 |
| ·氮分压对Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜磁学性能影响 | 第58-59页 |
| ·N掺杂Zn_(0.925)Mg_(0.075)O薄膜拉曼光谱分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 本章参考文献 | 第61-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第66-67页 |
