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无压浸渗制备金刚石/铜复合材料的研究

摘要第10-11页
ABSTRACT第11-12页
第一章 绪论第13-25页
    1.1 引言第13页
    1.2 电子封装及封装材料第13-17页
        1.2.1 电子封装第13-15页
        1.2.2 电子封装材料第15页
        1.2.3 常用电子封装材料第15-16页
        1.2.4 先进电子封装材料第16-17页
    1.3 金刚石特性及其表面改性第17-21页
        1.3.1 金刚石第17-18页
        1.3.2 金刚石的热稳定性第18-19页
        1.3.3 金刚石表面改性第19-20页
        1.3.4 磁控溅射法第20-21页
    1.4 基体铜及其改性第21-22页
        1.4.1 基体铜第21页
        1.4.2 基体改性第21-22页
    1.5 金刚石/铜复合材料的制备方法第22-23页
    1.6 金刚石/铜复合材料的研究现状第23-24页
    1.7 本课题研究的目的、意义和内容第24-25页
第二章 实验过程及方法第25-31页
    2.1 实验用主要原料及设备第25-26页
        2.1.1 实验原料第25-26页
        2.1.2 实验设备第26页
    2.2 实验技术路线第26-27页
    2.3 材料制备第27-29页
        2.3.1 磁控溅射法制备镀层第27-28页
        2.3.2 盐浴法制备镀层第28页
        2.3.3 模具设计第28页
        2.3.4 无压浸渗制备金刚石/铜复合材料第28-29页
    2.4 材料性能的表征与测试第29-31页
第三章 金刚石表面金属化镀层的调控及其表征分析第31-51页
    3.1 金刚石颗粒表面盐浴镀第31-35页
        3.1.1 盐浴三氧化钨镀覆第31-33页
        3.1.2 钨粉盐浴镀覆第33-35页
    3.2 金刚石颗粒表面磁控溅射镀第35-41页
        3.2.1 磁控溅射法制备镀层与工艺探索第35-36页
        3.2.2 磁控溅射钨镀层形貌分析第36-38页
        3.2.3 磁控溅射钨镀层成分分析第38-39页
        3.2.4 外购与自制镀钨金刚石颗粒样品对比第39-41页
    3.3 热处理温度对镀层的影响第41-49页
        3.3.1 热处温度对钨镀层成分的影响第41-43页
        3.3.2 镀层热处理机理分析第43-44页
        3.3.3 镀层厚度表征第44-45页
        3.3.4 热处理温度对钨镀表层的影响第45-47页
        3.3.5 热处理温度对金刚石颗粒镀层形貌的影响第47-49页
    3.4 本章小结第49-51页
第四章 金刚石/铜复合材料的制备工艺及其组织、性能研究第51-64页
    4.1 无压浸渗工艺第51-53页
    4.2 金刚石/铜复合材料的组织分析第53-59页
        4.2.1 盐浴镀钨金刚石颗粒对金刚石/铜复合材料组织形貌的影响第53-54页
        4.2.2 磁控溅射镀钨金刚石颗粒对金刚石/铜复合材料组织形貌的影响第54-56页
        4.2.3 典型缺陷第56-57页
        4.2.4 浸渗后镀层表面形貌第57-59页
    4.3 各因素对金刚石/铜复合材料性能的影响第59-62页
        4.3.1 盐浴镀金刚石颗粒对金刚石/铜复合材料性能的影响第59页
        4.3.2 磁控溅射镀金刚石颗粒对金刚石/铜复合材料性能的影响第59-60页
        4.3.3 镀层厚度及热处理温度对热导率的影响第60-61页
        4.3.4 镀层厚度及热处理温度对气密性的影响第61-62页
    4.4 本章小结第62-64页
第五章 典型构件的制备与热分析第64-70页
    5.1 典型构件的制备第64-65页
    5.2 有限元热分析第65-67页
    5.3 界面热阻分析第67-69页
    5.4 本章小结第69-70页
第六章 结论第70-71页
致谢第71-72页
参考文献第72-77页
作者在学期间取得的学术成果第77页

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