用于离子束抛光的射频离子源控制器设计与性能测试研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 课题的来源与意义 | 第11-13页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第11页 |
| 1.1.2 课题研究的背景与意义 | 第11-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第15页 |
| 1.3 论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 射频离子源工作原理与控制器设计 | 第17-26页 |
| 2.1 射频离子源工作原理 | 第17-20页 |
| 2.1.1 工作原理 | 第17-18页 |
| 2.1.2 射频离子源结构 | 第18-20页 |
| 2.2 控制器设计 | 第20-25页 |
| 2.2.1 射频离子束机床结构简介 | 第20-21页 |
| 2.2.2 射频离子源参数控制流程设计 | 第21-22页 |
| 2.2.3 人机交互界面设计 | 第22-24页 |
| 2.2.4 自动开关机程序设计 | 第24-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 射频离子源性能测试 | 第26-37页 |
| 3.1 去除函数分析 | 第26-27页 |
| 3.2 短时重复性、长时稳定性 | 第27-31页 |
| 3.2.1 短时重复性实验 | 第27-28页 |
| 3.2.2 长时稳定性实验 | 第28-31页 |
| 3.3 材料去除线性性 | 第31-32页 |
| 3.4 参数小扰动鲁棒性 | 第32-36页 |
| 3.4.1 离子源气体流量小扰动 | 第33页 |
| 3.4.2 靶距小扰动 | 第33-34页 |
| 3.4.3 屏栅电压小扰动 | 第34页 |
| 3.4.4 射频功率小扰动 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 射频离子源工艺参数研究 | 第37-47页 |
| 4.1 工艺参数影响分析 | 第37-43页 |
| 4.1.1 气体流量 | 第37-40页 |
| 4.1.2 射频功率 | 第40-41页 |
| 4.1.3 屏栅电压 | 第41-42页 |
| 4.1.4 靶距 | 第42-43页 |
| 4.2 工艺参数选择 | 第43-46页 |
| 4.2.1 各参数之间的关系 | 第43-44页 |
| 4.2.2 工艺参数选取 | 第44-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 离子束抛光加工 | 第47-59页 |
| 5.1 离子束抛光加工设备及加工过程简介 | 第47-48页 |
| 5.2 离子束抛光加工实验 | 第48-57页 |
| 5.2.1 离子束抛光加工实验 | 第48-56页 |
| 5.2.2 影响加工精度的因素 | 第56-57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 6.1 全文总结 | 第59-60页 |
| 6.2 研究展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第66-67页 |
| 附录 A自动开关机与保真空程序 | 第67-69页 |
