熔石英元件纳米SiO2超光滑低缺陷射流抛光技术研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 课题来源与研究背景 | 第12-13页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第12页 |
| 1.1.2 课题的研究背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-19页 |
| 1.2.1 微射流抛光国内外研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.2 纳米射流抛光国内外研究现状 | 第16-19页 |
| 1.3 论文研究主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 纳米SiO_2射流抛光去除机理研究 | 第21-30页 |
| 2.1 射流抛光碰撞模型 | 第21-23页 |
| 2.2 抛光颗粒粒径选取 | 第23-26页 |
| 2.2.1 抛光颗粒粒径选取 | 第23-26页 |
| 2.2.2 抛光液种类 | 第26页 |
| 2.3 纳米SiO_2射流抛光去除机理 | 第26-29页 |
| 2.3.1 发生化学吸附 | 第27页 |
| 2.3.2 弱化的原子键发生断裂 | 第27-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 纳米SiO_2射流抛光装置设计 | 第30-48页 |
| 3.1 纳米SiO_2射流抛光系统构造 | 第30-33页 |
| 3.2 流体动力学仿真 | 第33-43页 |
| 3.2.1 纳米射流流体动力学分析 | 第33-34页 |
| 3.2.2 喷嘴结构分析 | 第34-35页 |
| 3.2.3 单孔喷嘴仿真 | 第35-36页 |
| 3.2.4 单缝喷嘴仿真 | 第36-43页 |
| 3.3 不同喷嘴加工对比实验 | 第43-46页 |
| 3.3.1 单孔喷嘴去除函数 | 第43页 |
| 3.3.2 单缝喷嘴去除函数 | 第43-45页 |
| 3.3.3 多缝喷嘴去除函数 | 第45-46页 |
| 3.3.4 加工效率对比 | 第46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 纳米SiO_2射流抛光技术应用 | 第48-60页 |
| 4.1 纳米SiO_2射流抛光超光滑加工 | 第48-50页 |
| 4.2 纳米SiO_2射流抛光低缺陷加工 | 第50-59页 |
| 4.2.1 破碎性缺陷的钝化 | 第50-55页 |
| 4.2.2 污染性缺陷的去除 | 第55-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 全文总结 | 第60页 |
| 5.2 研究展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第71页 |
