摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 石墨烯量子点的制备方法 | 第10-16页 |
1.2.1 自上而下法 | 第11-14页 |
1.2.2 自下而上法 | 第14-16页 |
1.3 石墨烯量子点的改性 | 第16-19页 |
1.3.1 尺寸的调节 | 第16-17页 |
1.3.2 含氧量的调节 | 第17-18页 |
1.3.3 表面功能化 | 第18页 |
1.3.4 杂原子掺杂 | 第18-19页 |
1.4 石墨烯量子点的荧光发射机理 | 第19-21页 |
1.4.1 缺陷态诱导发光 | 第19-20页 |
1.4.2 共轭π键的量子限域效应发光 | 第20-21页 |
1.5 石墨烯量子点的应用 | 第21-23页 |
1.5.1 生物成像 | 第21-22页 |
1.5.2 荧光传感 | 第22页 |
1.5.3 光电器件 | 第22-23页 |
1.5.4 光催化 | 第23页 |
1.6 本论文的指导思想 | 第23-24页 |
第二章 杂原子掺杂石墨烯量子的点制备、荧光发射机制的研究 | 第24-45页 |
2.1 前言 | 第24-25页 |
2.2 实验部分 | 第25-27页 |
2.2.1 试剂 | 第25页 |
2.2.2 仪器 | 第25页 |
2.2.3 UGQDs、NGQDs和BGQDs的制备 | 第25-26页 |
2.2.4 理论计算 | 第26-27页 |
2.2.5 电化学测试 | 第27页 |
2.3 结果与讨论 | 第27-44页 |
2.3.1 UGQDs、NGQDs和BGQDs结构形貌 | 第27-31页 |
2.3.2 UGQDs、NGQDs和BGQDs的光学性质 | 第31-40页 |
2.3.3 理论计算 | 第40-43页 |
2.3.4 电化学分析 | 第43-44页 |
2.4 本章小结 | 第44-45页 |
第三章 不同N掺杂含量NGQDs的制备及其在细胞成像中的应用 | 第45-61页 |
3.1 前言 | 第45页 |
3.2 实验部分 | 第45-49页 |
3.2.1 试剂 | 第45-46页 |
3.2.2 仪器 | 第46页 |
3.2.3 NGQDs的制备 | 第46-47页 |
3.2.4 荧光量子产率的计算 | 第47-48页 |
3.2.5 细胞培养 | 第48页 |
3.2.6 细胞毒性实验 | 第48-49页 |
3.2.7 细胞成像实验 | 第49页 |
3.3 结果与讨论 | 第49-60页 |
3.3.1 不同制备条件下NGQDs的光学性质 | 第49-57页 |
3.3.1.1 离子强度对NGQDs的影响 | 第50-52页 |
3.3.1.2 电解电压对NGQDs的影响 | 第52-55页 |
3.3.1.3 电解液N源浓度对NGQDs的影响 | 第55-57页 |
3.3.2 NGQDs的光学稳定性 | 第57-58页 |
3.3.3 NGQDs的细胞毒性 | 第58-59页 |
3.3.4 细胞成像 | 第59-60页 |
3.4 本章小结 | 第60-61页 |
第四章 总结与展望 | 第61-62页 |
4.1 总结 | 第61页 |
4.2 展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-72页 |
硕士期间研究成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |