| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 人工电磁材料的特性 | 第12-16页 |
| 1.1.1 负介电常数 | 第12-13页 |
| 1.1.2 负电导率 | 第13-14页 |
| 1.1.3 负折射率 | 第14-16页 |
| 1.2 人工电磁材料等效介质理论和参数提取方法 | 第16-17页 |
| 1.3 太赫兹人工电磁材料研究进展及应用 | 第17-22页 |
| 1.3.1 太赫兹波特性 | 第17-18页 |
| 1.3.2 太赫兹人工电磁材料在调制器中的应用 | 第18-19页 |
| 1.3.3 太赫兹人工电磁材料在传感器中的应用 | 第19-22页 |
| 1.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 2 可调太赫兹人工电磁材料 | 第23-27页 |
| 2.1 可调太赫兹人工电磁材料的基本类型 | 第23页 |
| 2.2 微机电可重构人工电磁材料 | 第23-25页 |
| 2.3 基于电光介质的混合可调人工电磁材料 | 第25-26页 |
| 2.4 基于相变材料的可调人工电磁材料 | 第26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 基于VO_2的太赫兹可调人工电磁材料的仿真设计 | 第27-46页 |
| 3.1 相变材料VO_2的特性 | 第27-28页 |
| 3.2 基于VO_2的太赫兹人工电磁材料的仿真研究 | 第28-30页 |
| 3.2.1 使用的仿真软件及相关细节 | 第28-30页 |
| 3.2.2 太赫兹频段VO_2介电常数的描述模型 | 第30页 |
| 3.3 基于VO_2的多层开口谐振型可调太赫兹人工电磁材料设计 | 第30-34页 |
| 3.4 不对称VO_2/Au双条型多层太赫兹可调人工电磁材料设计 | 第34-38页 |
| 3.5 Au/VO_2多层磁谐振带结构太赫兹可调人工电磁材料设计 | 第38-41页 |
| 3.6 Au/VO_2多层完美吸波结构太赫兹可调人工电磁材料设计 | 第41-45页 |
| 3.7 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 Au/VO_2多层完美吸波结构太赫兹人工电磁材料的制备研究 | 第46-61页 |
| 4.1 VO_2膜的制备和表征 | 第46-53页 |
| 4.1.1 射频磁控溅射 | 第46-48页 |
| 4.1.2 XRD | 第48-49页 |
| 4.1.3 VO_2膜的制备 | 第49-53页 |
| 4.2 Au/VO_2多层完美吸波结构太赫兹人工电磁材料的制备和表征 | 第53-59页 |
| 4.2.1 光刻 | 第53-56页 |
| 4.2.2 Au/VO_2多层完美吸波结构太赫兹人工电磁材料的制备 | 第56-58页 |
| 4.2.3 Au/VO_2多层完美吸波结构太赫兹人工电磁材料的表征技术 | 第58-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 5 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 总结 | 第61页 |
| 5.2 展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 附录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
