摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-24页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 TiB_2涂层的研究进展与分析 | 第15-18页 |
1.2.1 TiB_2涂层的研究 | 第16页 |
1.2.2 掺杂TiB_2涂层的研究 | 第16-17页 |
1.2.3 调制周期与多层TiB_2涂层的研究 | 第17-18页 |
1.2.4 TiB_2涂层的制备 | 第18页 |
1.3 刀具涂层的制备技术简介 | 第18-22页 |
1.3.1 化学气相沉积(CVD) | 第18-19页 |
1.3.2 物理气相沉积(PVD) | 第19-22页 |
1.4 研究意义与主要研究内容 | 第22-24页 |
1.4.1 研究意义 | 第22页 |
1.4.2 主要研究内容 | 第22-24页 |
第二章 涂层的制备及分析技术 | 第24-37页 |
2.1 涂层制备 | 第24-27页 |
2.1.1 涂层沉积设备 | 第24-25页 |
2.1.2 基体的选择和前处理 | 第25页 |
2.1.3 涂层的制备 | 第25-27页 |
2.2 涂层成分及结构检测方法 | 第27-30页 |
2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第27-28页 |
2.2.2 透射电子显微镜(TEM) | 第28-29页 |
2.2.3 X射线衍射(XRD) | 第29页 |
2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
2.3 涂层力学性能测试方法 | 第30-34页 |
2.3.1 纳米压痕测试(Nanoindentation) | 第30-31页 |
2.3.2 划痕测试(Scratchtest) | 第31-32页 |
2.3.3 涂层韧性(Toughness) | 第32-33页 |
2.3.4 摩擦测试(Frictiontest) | 第33-34页 |
2.4 涂层氧化实验 | 第34页 |
2.5 涂层切削实验 | 第34-37页 |
第三章 偏压对磁控溅射TiB_2涂层结构和性能的影响 | 第37-49页 |
3.1 引言 | 第37-38页 |
3.2 TiB_2涂层的制备 | 第38页 |
3.3 TiB_2涂层成分和结构 | 第38-43页 |
3.3.1 TiB_2涂层成分分析 | 第38-39页 |
3.3.2 TiB_2涂层结构分析 | 第39-42页 |
3.3.3 TiB_2涂层形貌分析 | 第42-43页 |
3.4 涂层机械性能分析 | 第43-48页 |
3.4.1 涂层硬度 | 第43-44页 |
3.4.2 涂层韧性 | 第44-45页 |
3.4.3 涂层膜-基结合力 | 第45-46页 |
3.4.4 涂层摩擦性能 | 第46-48页 |
3.5 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 不同过渡层对TiB_2涂层结构及性能的影响 | 第49-59页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 涂层的制备 | 第49-50页 |
4.3 涂层结构形貌分析 | 第50-52页 |
4.3.1 涂层XRD物相结构分析 | 第50-51页 |
4.3.2 涂层形貌分析 | 第51-52页 |
4.4 涂层机械性能分析 | 第52-56页 |
4.4.1 涂层硬度 | 第52-53页 |
4.4.2 涂层韧性 | 第53-54页 |
4.4.3 涂层膜-基结合力 | 第54-56页 |
4.5 涂层切削性能分析 | 第56-58页 |
4.6 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 不同C含量对TiB_2涂层结构及性能的影响 | 第59-73页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 涂层的制备 | 第59-60页 |
5.3 TiB_2-C涂层成分和结构 | 第60-64页 |
5.3.1 TiB_2-C涂层成分分析(EDS) | 第60-61页 |
5.3.2 TiB_2-C涂层结构分析 | 第61-64页 |
5.3.3 TiB_2-C涂层形貌分析 | 第64页 |
5.4 涂层机械性能分析 | 第64-69页 |
5.4.1 涂层硬度 | 第64-65页 |
5.4.2 涂层韧性 | 第65-67页 |
5.4.3 涂层膜-基结合力 | 第67-68页 |
5.4.4 涂层常温摩擦性能 | 第68-69页 |
5.5 TiB_2-C涂层氧化实验 | 第69-71页 |
5.6 本章小结 | 第71-73页 |
结论与展望 | 第73-76页 |
参考文献 | 第76-81页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第81-83页 |
致谢 | 第83页 |