| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究进展 | 第10-13页 |
| 1.3 论文主要工作 | 第13-15页 |
| 2 理论依据 | 第15-29页 |
| 2.1 平行平板多光束干涉理论 | 第15-21页 |
| 2.1.1 多光束干涉的强度分布 | 第15-16页 |
| 2.1.2 多光束干涉的特点 | 第16-18页 |
| 2.1.3 基于多光束干涉原理的F-P干涉仪 | 第18-21页 |
| 2.2 电光晶体的理论 | 第21-27页 |
| 2.2.1 晶体的电光效应 | 第21-22页 |
| 2.2.2 (?)2m晶体点群的线性电光效应 | 第22-24页 |
| 2.2.3 利用晶体电光效应的光波调制理论 | 第24-27页 |
| 2.3 瑞利高光谱激光雷达测温原理 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 扫描式固体腔F-P干涉仪的理论设计 | 第29-39页 |
| 3.1 设计原理 | 第29页 |
| 3.2 扫描方法 | 第29-31页 |
| 3.2.1 电光晶体调制方法的确定 | 第29-30页 |
| 3.2.2 固体腔F-P干涉仪扫描方式的确定 | 第30-31页 |
| 3.3 扫描式固体腔F-P干涉仪初始参数设计 | 第31-36页 |
| 3.3.1 腔体类型的选择 | 第31-32页 |
| 3.3.2 自由光谱区和几何腔长 | 第32-33页 |
| 3.3.3 带宽以及最佳扫描步长 | 第33-36页 |
| 3.3.4 腔体反射率 | 第36页 |
| 3.4 固体腔F-P设计参数的分析 | 第36-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 4 电光晶体性能的测量与分析 | 第39-51页 |
| 4.1 KD*P晶体电光性能测试原理 | 第39-41页 |
| 4.1.1 电光晶体折射率调制度 | 第39页 |
| 4.1.2 数字全息干涉术 | 第39-41页 |
| 4.2 KD*P晶体电光性能测试实验 | 第41-48页 |
| 4.2.1 性能测试方案设计 | 第41页 |
| 4.2.2 电光晶体性能测试光路的搭建 | 第41-42页 |
| 4.2.3 实验条件的分析与控制 | 第42-47页 |
| 4.2.4 实验光路的调校及全息图的记录 | 第47-48页 |
| 4.3 测试数据处理与结果分析 | 第48-50页 |
| 4.3.1 测试数据处理 | 第48-49页 |
| 4.3.2 测试结果分析 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 5 扫描式固体腔F-P干涉仪性能参数的测试与分析 | 第51-69页 |
| 5.1 扫描式固体腔F-P干涉仪参数分析 | 第51-55页 |
| 5.1.1 固体腔F-P干涉仪 | 第51-52页 |
| 5.1.2 电压驱动 | 第52-55页 |
| 5.2 理论分析扫描式固体腔F-P干涉仪性能的影响因子 | 第55-58页 |
| 5.2.1 光束入射角 | 第55页 |
| 5.2.2 光束发散角 | 第55-57页 |
| 5.2.3 脉冲光线宽 | 第57-58页 |
| 5.2.4 腔体温度 | 第58页 |
| 5.3 扫描式固体腔F-P干涉仪性能测试方案设计 | 第58-61页 |
| 5.3.1 温控系统的设计 | 第58-59页 |
| 5.3.2 性能测试光路设计与搭建 | 第59-61页 |
| 5.4 性能测试的实现与结果分析 | 第61-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 6 总结与展望 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 在校期间参与发表的文章 | 第79页 |