新型ZnO基透明导电氧化物薄膜的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·透明导电氧化物薄膜概述 | 第9页 |
| ·透明导电薄膜的电学与光学性能 | 第9-13页 |
| ·透明导电薄膜的电学特性 | 第9-10页 |
| ·透明导电薄膜的光学特性 | 第10-12页 |
| ·提高TCO薄膜光电性能的方法 | 第12-13页 |
| ·TCO薄膜的种类及研究现状 | 第13-16页 |
| ·In_2O_3基透明导电薄膜 | 第14页 |
| ·SnO_2基透明导电薄膜 | 第14-15页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第15-16页 |
| ·TCO薄膜的应用 | 第16-19页 |
| ·TCO应用于平板显示器 | 第17页 |
| ·TCO应用于太阳能电池 | 第17-18页 |
| ·TCO在其他方面的应用 | 第18-19页 |
| ·透明导电薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·其他制备方法 | 第20-21页 |
| ·本文研究的目的及意义 | 第21-22页 |
| 第二章 薄膜制备与性能表征 | 第22-34页 |
| ·直流反应磁控溅射装置 | 第22-23页 |
| ·实验过程 | 第23-27页 |
| ·金属镶嵌靶材的制备 | 第23-26页 |
| ·衬底及其清洗 | 第26页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第26-27页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第27-34页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第27-28页 |
| ·薄膜的厚度测试 | 第28页 |
| ·薄膜的光学性能表征 | 第28-29页 |
| ·薄膜的电学性能表征 | 第29-32页 |
| ·薄膜的太赫兹性质测量 | 第32-34页 |
| 第三章 透明导电薄膜ZnO:Mo的研究 | 第34-52页 |
| ·ZMO薄膜的晶体结构和表面形貌 | 第34-41页 |
| ·ZMO薄膜的XRD测试 | 第34-38页 |
| ·ZMO薄膜的表面形貌 | 第38-39页 |
| ·ZMO薄膜的化学价态 | 第39-41页 |
| ·ZMO薄膜的电学性能 | 第41-44页 |
| ·薄膜的导电机制 | 第41-42页 |
| ·制备参数对薄膜电学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·ZMO薄膜的光学性能 | 第44-51页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第44-45页 |
| ·ZMO薄膜的透射谱和反射谱 | 第45-47页 |
| ·ZMO薄膜的折射率和消光系数 | 第47-49页 |
| ·ZMO薄膜的光学禁带宽度 | 第49-50页 |
| ·ZMO薄膜的载流子有效质量 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第四章 透明导电薄膜ZnO:Mo的太赫兹传输性质 | 第52-59页 |
| ·ZMO透明导电薄膜的制备及其性质 | 第52-53页 |
| ·ZMO透明导电薄膜的太赫兹光谱性质 | 第53-56页 |
| ·太赫兹波与自由载流子相互作用的Drude模型 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第五章 透明导电薄膜ZnO:W的研究 | 第59-68页 |
| ·ZWO薄膜的性能及其特点 | 第59-60页 |
| ·制备条件参数对薄膜性能的影响 | 第60-67页 |
| ·钨掺杂量对ZWO薄膜性能的影响 | 第60-62页 |
| ·氧氩比对ZWO薄膜性能的影响 | 第62-64页 |
| ·基板温度对ZWO薄膜性能的影响 | 第64-66页 |
| ·溅射电流对ZWO薄膜性能的影响 | 第66-67页 |
| ·薄膜厚度对于薄膜性能的影响 | 第67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第六章 全文总结 | 第68-76页 |
| 附录 攻读硕士期间的科研成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
