| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 荧光寿命显微成像 | 第10-13页 |
| 1.2 荧光寿命显微成像技术现状 | 第13-18页 |
| 1.3 高精度荧光寿命显微成像技术进展 | 第18-22页 |
| 1.4 本文主要内容 | 第22-24页 |
| 2 荧光寿命成像系统的性能评估及优化 | 第24-51页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 系统测量性能评估方法和结果 | 第25-41页 |
| 2.3 系统噪声的分析与控制 | 第41-42页 |
| 2.4 系统性能的优化方案 | 第42-45页 |
| 2.5 单/双光子寿命成像系统的实现 | 第45-49页 |
| 2.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 3 高精度荧光寿命成像技术在荧光鼠脑样本制备中的应用 | 第51-66页 |
| 3.1 引言 | 第51-52页 |
| 3.2 鼠脑样本制备简介 | 第52-60页 |
| 3.3 鼠脑样本固定剂筛选 | 第60-62页 |
| 3.4 鼠脑样本包埋剂筛选 | 第62-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 4 高精度荧光寿命成像技术在荧光共振能量转移中的应用 | 第66-80页 |
| 4.1 引言 | 第66-67页 |
| 4.2 FRET中的FRET对 | 第67-70页 |
| 4.3 荧光寿命成像系统的优化 | 第70-75页 |
| 4.4 CFP-YFP对的FLIM-FRET成像 | 第75-78页 |
| 4.5 本章小结 | 第78-80页 |
| 5 荧光寿命成像中的超高精度寿命计算方法及应用 | 第80-93页 |
| 5.1 引言 | 第80-81页 |
| 5.2 荧光寿命分析方法 | 第81-84页 |
| 5.3 IRF的曲线测量与时间稳定性研究 | 第84-85页 |
| 5.4 荧光寿命测量方法的精确度与准确度 | 第85-89页 |
| 5.5 信号强度与寿命准确度关系 | 第89-90页 |
| 5.6 纳米线CdS荧光寿命成像 | 第90-91页 |
| 5.7 本章小结 | 第91-93页 |
| 6 总结与展望 | 第93-96页 |
| 6.1 本文研究的主要内容 | 第93-94页 |
| 6.2 本文的主要创新之处 | 第94-95页 |
| 6.3 研究展望 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-109页 |
| 附录 作者攻读博士学位期间发表的论文 | 第109页 |