| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 椭圆偏振光谱测量技术的发展和应用 | 第9-10页 |
| 1.2 硅纳米晶体研究背景 | 第10-11页 |
| 1.3 铁酸铋的研究背景 | 第11-12页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 椭偏光谱测量与分析原理 | 第14-30页 |
| 2.1 椭偏光谱测量原理 | 第14-18页 |
| 2.1.1 材料的光学常数与Kramas-Kronig关系 | 第14-16页 |
| 2.1.2 菲涅尔公式和椭偏参数的推导 | 第16-17页 |
| 2.1.3 椭偏参数的推导 | 第17-18页 |
| 2.2 椭偏仪的构造及分析方法 | 第18-24页 |
| 2.2.1 RAP型椭圆偏振光谱仪 | 第18-20页 |
| 2.2.2 椭偏光谱分析的模型和方法 | 第20-23页 |
| 2.2.3 椭偏模型建立及参数分析 | 第23-24页 |
| 2.3 光学色散模型 | 第24-28页 |
| 2.3.1 常用的光学色散模型 | 第25-27页 |
| 2.3.2 有效介质理论 | 第27-28页 |
| 2.4 小结 | 第28-30页 |
| 第三章 硅纳米晶体的光学性质研究 | 第30-47页 |
| 3.1 硅纳米晶体的研究现状 | 第30-31页 |
| 3.2 样品制备方法 | 第31-32页 |
| 3.3 样品的表征及测量 | 第32-33页 |
| 3.4 宽光致发光谱的硅纳米晶体 | 第33-37页 |
| 3.5 硅纳米晶体能带宽度 | 第37-40页 |
| 3.6 发光机理探讨 | 第40-45页 |
| 3.6.1 量子限制发光中心模型解释 | 第40-41页 |
| 3.6.2 PL谱与禁带宽度之间的关系 | 第41-45页 |
| 3.7 小结 | 第45-47页 |
| 第四章 铁酸铋的光学性质研究 | 第47-58页 |
| 4.1 铁酸铋的性质和研究现状 | 第47页 |
| 4.2 铁酸铋的制备和测量 | 第47-48页 |
| 4.3 铁酸铋的椭偏分析和光学性质研究 | 第48-57页 |
| 4.3.1 SrTiO_3衬底的拟合 | 第48-50页 |
| 4.3.2 SrRuO_3电极层的椭偏拟合 | 第50-52页 |
| 4.3.3 BiFeO_3薄膜的椭偏拟合 | 第52-57页 |
| 4.4 小结 | 第57-58页 |
| 第五章 工作总结及展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |