| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 实用化高温超导带材研究概况 | 第13-15页 |
| 1.3 涂层导体研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 涂层导体用金属基带的制备方法 | 第17-30页 |
| 1.4.1 IBAD法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 RABiTS法 | 第19-30页 |
| 1.4.2.1 性能要求 | 第19页 |
| 1.4.2.2 金属基带选材 | 第19-24页 |
| 1.4.2.3 Ni5W基带制备概况 | 第24-30页 |
| 1.5 本论文的研究目的、意义和主要研究内容 | 第30-34页 |
| 第2章 Ni5W合金的铸造和基带轧制研究 | 第34-52页 |
| 2.1 前言 | 第34页 |
| 2.2 实验过程 | 第34-39页 |
| 2.2.1 Ni5W合金铸锭的制备 | 第35页 |
| 2.2.2 Ni5W合金基带制备 | 第35-36页 |
| 2.2.3 测试技术及分析方法 | 第36-39页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第39-50页 |
| 2.3.1 Ni5W合金铸锭 | 第39-42页 |
| 2.3.1.1 粉末冶金锭的XRD分析 | 第39-40页 |
| 2.3.1.2 铸锭组织形貌和结晶形核过程分析 | 第40-41页 |
| 2.3.1.3 合金锭锻造后组织分析 | 第41-42页 |
| 2.3.2 轧制加工 | 第42-50页 |
| 2.3.2.1 轧制态基带形貌分析 | 第42-44页 |
| 2.3.2.2 道次加工率对立方织构形成的影响 | 第44-48页 |
| 2.3.2.3 总加工率对立方织构形成的影响 | 第48-49页 |
| 2.3.2.4 Ni5W合金宽带不同位置对于立方织构的影响 | 第49-50页 |
| 2.4 小结 | 第50-52页 |
| 第3章 Ni5W合金基带的再结晶热处理 | 第52-74页 |
| 3.1 前言 | 第52页 |
| 3.2 实验过程 | 第52-56页 |
| 3.2.1 静态再结晶退火 | 第53-55页 |
| 3.2.2 动态再结晶退火 | 第55-56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-71页 |
| 3.3.1 Ni5W合金基带静态再结晶退火工艺研究 | 第56-63页 |
| 3.3.1.1 初始再结晶温度T_1的确定 | 第56-57页 |
| 3.3.1.2 一步退火温度对Ni5W合金基带立方织构的影响 | 第57-61页 |
| 3.3.1.3 两步退火法对Ni5W合金基带立方织构的影响 | 第61-63页 |
| 3.3.2 Ni5W合金基带连续再结晶退火工艺研究 | 第63-71页 |
| 3.3.2.1 一步法退火时温度对基带立方织构形成影响 | 第63-65页 |
| 3.3.2.2 两步退火法对基带立方织构形成的影响 | 第65-71页 |
| 3.4 小结 | 第71-74页 |
| 第4章 Ni5W合金基带电化学抛光研究 | 第74-100页 |
| 4.1 前言 | 第74页 |
| 4.2 实验过程 | 第74-78页 |
| 4.2.1 Ni5W合金基带抛光 | 第75-76页 |
| 4.2.2 测试技术及分析方法 | 第76-78页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第78-98页 |
| 4.3.1 电化学抛光参数对Ni5W基带粗糙度的影响 | 第78-85页 |
| 4.3.1.1 电流密度对Ni5W基带粗糙度的影响 | 第78-80页 |
| 4.3.1.2 抛光液温度对Ni5W基带粗糙度的影响 | 第80-81页 |
| 4.3.1.3 抛光时间对Ni5W基带粗糙度的影响 | 第81-82页 |
| 4.3.1.4 电流密度,抛光液温度,抛光时间对基带表面粗糙度的综合影响 | 第82-85页 |
| 4.3.2 Ni5W合金电化学抛光机理研究 | 第85-93页 |
| 4.3.3 电化学抛光对基带织构的影响 | 第93-94页 |
| 4.3.4 长带电化学抛光 | 第94-98页 |
| 4.3.4.1 连续电解抛光设备的设计 | 第94-96页 |
| 4.3.4.2 连续电抛光对基带表面质量的影响 | 第96-98页 |
| 4.4 小结 | 第98-100页 |
| 第5章 Ni5W合金基带表面硫化改性处理 | 第100-118页 |
| 5.1 前言 | 第100页 |
| 5.2 实验 | 第100-104页 |
| 5.2.1 硫化 | 第102-103页 |
| 5.2.2 La_2Zr_2O_7缓冲层沉积 | 第103页 |
| 5.2.3 测试技术及分析方法 | 第103-104页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第104-115页 |
| 5.3.1 硫化处理路线Ⅰ | 第104-110页 |
| 5.3.1.1 硫粉硫化 | 第104-108页 |
| 5.3.1.2 c(2×2)-S超结构对LZO膜织构的影响 | 第108-110页 |
| 5.3.2 硫化处理路线Ⅱ | 第110-115页 |
| 5.3.2.1 硫化铵硫化 | 第110-113页 |
| 5.3.2.2 c(2×2)-S超结构对LZO膜织构的影响 | 第113-115页 |
| 5.4 小结 | 第115-118页 |
| 第6章 结论 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-132页 |
| 致谢 | 第132-134页 |
| 攻读博士学位期间获得的学术成果 | 第134-135页 |
