| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 课题研究目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 压电材料的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 BZT-BCT 基薄膜的电性能 | 第12-18页 |
| 1.3.1 BZT-BCT 基薄膜的介电性能 | 第13-15页 |
| 1.3.2 BZT-BCT 基薄膜的铁电性能 | 第15页 |
| 1.3.3 BZT-BCT 基薄膜的压电性能 | 第15-18页 |
| 1.4 BZT-BCT 基薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 溅射法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 脉冲激光沉积法 | 第19页 |
| 1.4.3 金属有机化学气相沉积 | 第19页 |
| 1.4.4 溶胶凝胶法 | 第19-20页 |
| 1.5 铁电畴的测试方法 | 第20页 |
| 1.6 BZT-BZT 基薄膜的应用前景 | 第20-22页 |
| 1.7 本文主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第23-30页 |
| 2.1 试验材料及薄膜制备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第23页 |
| 2.1.2 薄膜制备流程 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜制备工艺参数 | 第24-27页 |
| 2.2.1 薄膜制备的主要工艺参数 | 第24-25页 |
| 2.2.2 电极制备的工艺参数 | 第25页 |
| 2.2.3 薄膜的工艺参数 | 第25-27页 |
| 2.3 薄膜微观结构与性能的研究方法 | 第27-30页 |
| 2.3.1 X 射线物相及织构分析 | 第27页 |
| 2.3.2 原子力显微镜表面形貌观察 | 第27-28页 |
| 2.3.3 薄膜介电性能测试 | 第28页 |
| 2.3.4 薄膜铁电性能测试 | 第28页 |
| 2.3.5 薄膜压电性能测试 | 第28-30页 |
| 第3章 双靶共溅射 BZT-BCT 薄膜结构分析 | 第30-43页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 双靶共溅射 BZT-BCT 薄膜结构分析 | 第30-33页 |
| 3.2.1 共溅射 BZT-BCT 薄膜的相结构 | 第30-31页 |
| 3.2.2 共溅射 BZT-BCT 薄膜的择优取向 | 第31-32页 |
| 3.2.3 共溅射 BZT-BCT 薄膜的表面形貌 | 第32-33页 |
| 3.3 叠层溅射 BZT/BCT 薄膜相结构分析 | 第33-39页 |
| 3.3.1 LaNiO_3种子层厚度对 BZT/BCT 叠层薄膜相组成的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.2 LaNiO_3种子层厚度对 BZT/BCT 叠层薄膜择优取向的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.3 LaNiO_3种子层晶化温度对 BZT/BCT 叠层薄膜相组成的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.4 LaNiO_3种子层晶化温度对 BZT/BCT 叠层薄膜择优取向的影响 | 第37-39页 |
| 3.4 叠层溅射 BZT/BCT 薄膜表面形貌分析 | 第39-42页 |
| 3.4.1 LaNiO_3种子层厚度对 BZT/BCT 叠层薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.2 LaNiO_3种子层晶化温度对 BZT/BCT 叠层薄膜表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 BZT-BCT 薄膜的畴结构 | 第43-55页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 共溅射 BZT-BCT 薄膜畴结构 | 第43-48页 |
| 4.2.1 不同热处理温度对双靶共溅射薄膜畴结构的影响 | 第44-47页 |
| 4.2.2 热处理温度不同的双靶共溅射薄膜的网格分析 | 第47-48页 |
| 4.3 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜畴结构 | 第48-51页 |
| 4.3.1 种子层厚度对叠层溅射 BZT-BCT 薄膜畴结构的影响 | 第48-50页 |
| 4.3.2 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜的自相关畴结构 | 第50-51页 |
| 4.4 种子层晶化温度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜畴结构 | 第51-54页 |
| 4.4.1 种子层晶化温度对叠层溅射 BZT-BCT 薄膜畴结构的影响 | 第51-53页 |
| 4.4.2 种子层晶化温度不同的 BZT-BCT 薄膜畴结构网格分析 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 BZT-0.5BCT 薄膜的电性能 | 第55-65页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 热处理温度不同的共溅射 BZT-BCT 薄膜电性能 | 第55-59页 |
| 5.2.1 热处理温度不同的共溅射 BZT-BCT 薄膜铁电性能 | 第55页 |
| 5.2.2 热处理温度不同的共溅射 BZT-BCT 薄膜介性能 | 第55-56页 |
| 5.2.3 热处理温度不同的共溅射 BZT-BCT 薄膜压电性能 | 第56-59页 |
| 5.3 种子层热处理温度不同叠层溅射 BZT-BCT 薄膜电性能 | 第59-61页 |
| 5.3.1 种子层热处理温度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜铁电性能 | 第59-60页 |
| 5.3.2 种子层热处理温度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜介电性能 | 第60-61页 |
| 5.3.3 种子层热处理温度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜的压电性能 | 第61页 |
| 5.4 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜电性能 | 第61-63页 |
| 5.4.1 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜铁电性能 | 第61-62页 |
| 5.4.2 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜介电性能 | 第62-63页 |
| 5.4.3 种子层厚度不同的叠层溅射 BZT-BCT 薄膜压电性能 | 第63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
