摘要 | 第7-10页 |
Abstract | 第10页 |
第一章 前言 | 第13-19页 |
1.1 研究工作的背景 | 第13页 |
1.2 印染废水的来源、水质特征及处理技术 | 第13-17页 |
1.2.1 染料简介 | 第13-14页 |
1.2.1.1 染料的分类 | 第13页 |
1.2.1.2 染料的发色理论 | 第13-14页 |
1.2.2 印染废水的来源及其水质特征 | 第14页 |
1.2.3 印染废水的处理技术 | 第14-17页 |
1.2.3.1 物化法 | 第14-15页 |
1.2.3.2 生化法 | 第15-16页 |
1.2.3.3 化学氧化法 | 第16-17页 |
1.3 本研究的目标、意义和内容 | 第17-19页 |
第二章 文献综述 | 第19-62页 |
2.1 UV氧化技术 | 第19-25页 |
2.1.1 UV氧化技术原理 | 第19-23页 |
2.1.1.1 激发态的产生 | 第19-20页 |
2.1.1.2 激发态的衰减 | 第20-21页 |
2.1.1.3 溶解氧的作用 | 第21-23页 |
2.1.2 偶氮染料的光降解机理 | 第23-25页 |
2.2 臭氧氧化技术 | 第25-54页 |
2.2.1 臭氧的分解机理 | 第26-30页 |
2.2.1.1 臭氧在纯水中的分解机理 | 第26-29页 |
2.2.1.2 引发剂、抑制剂和促进剂对臭氧分解的影响 | 第29-30页 |
2.2.2 有机物的臭氧氧化机理 | 第30-34页 |
2.2.2.1 间接反应机理 | 第31页 |
2.2.2.2 直接反应机理 | 第31-34页 |
2.2.3 臭氧氧化的影响因素 | 第34-36页 |
2.2.4 臭氧氧化的传质过程 | 第36-40页 |
2.2.4.1 传质基础参数 | 第36-37页 |
2.2.4.2 伴有化学反应的传质 | 第37-40页 |
2.2.5 臭氧氧化的反应动力学 | 第40-49页 |
2.2.5.1 反应速度常数的确定 | 第40-42页 |
2.2.5.2 臭氧与无机物的直接反应速度常数 | 第42页 |
2.2.5.3 臭氧与不可解离有机物的直接反应速度常数 | 第42-44页 |
2.2.5.4 臭氧与可解离有机物的直接反应速度常数 | 第44-49页 |
2.2.6 臭氧氧化过程的建模 | 第49-54页 |
2.2.6.1 臭氧氧化模型概述 | 第49-50页 |
2.2.6.2 饮用水臭氧氧化模型 | 第50-51页 |
2.2.6.3 废水臭氧氧化模型 | 第51-52页 |
2.2.6.4 模型问题小结 | 第52-54页 |
2.3 高级氧化技术 | 第54-60页 |
2.3.1 O_3/H_2O_2 | 第54-56页 |
2.3.2 O_3/UV | 第56-57页 |
2.3.3 H_2O_2/UV | 第57页 |
2.3.4 几种高级氧化方法的比较 | 第57-58页 |
2.3.5 高级氧化过程中的自由基 | 第58-60页 |
2.3.5.1 无机自由基 | 第58页 |
2.3.5.2 有机自由基 | 第58-59页 |
2.3.5.3 自由基之间反应的速度常数 | 第59-60页 |
2.4 O_3、O_3/UV与生化组合技术 | 第60-62页 |
第三章 实验装置及分析测试方法 | 第62-67页 |
3.1 实验目的 | 第62页 |
3.2 实验药品和装置 | 第62-64页 |
3.2.1 实验药品 | 第62-63页 |
3.2.2 实验装置及方法 | 第63-64页 |
3.2.2.1 实验仪器 | 第63页 |
3.2.2.2 实验装置及流程 | 第63-64页 |
3.3 实验步骤 | 第64-65页 |
3.3.1 染料降解实验 | 第64-65页 |
3.3.2 O_3、O_3/UV降解机理实验 | 第65页 |
3.4 检测及分析方法 | 第65-67页 |
第四章 阳离子红X-GRL染料的UV氧化处理研究 | 第67-75页 |
4.1 实验方法 | 第67页 |
4.2 实验结果 | 第67-69页 |
4.3 染料的光解机理 | 第69-70页 |
4.4 染料的光解动力学 | 第70-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-75页 |
第五章 阳离子红X-GRL染料的O_3氧化处理研究 | 第75-109页 |
5.1 实验方法 | 第75页 |
5.2 O_3氧化机理研究 | 第75-82页 |
5.2.1 化学计量比的测定 | 第75页 |
5.2.2 氧化过程中染料的降解、TOC和pH的下降、NO_3~-的生成 | 第75-76页 |
5.2.3 GC/MS中间产物定性结果 | 第76页 |
5.2.4 GC中间产物半定量结果 | 第76-79页 |
5.2.5 分子轨道计算 | 第79-81页 |
5.2.6 染料的脱色反应路径 | 第81-82页 |
5.3 臭氧传质-反应动力学 | 第82-97页 |
5.3.1 动力学参数的选取与测定 | 第83页 |
5.3.2 臭氧直接反应动力学 | 第83-90页 |
5.3.2.1 影响因素研究 | 第83-87页 |
5.3.2.2 计算结果 | 第87-90页 |
5.3.3 臭氧直接反应与.OH间接反应耦合的动力学 | 第90-97页 |
5.3.3.1 影响因素研究 | 第90-94页 |
5.3.3.2 计算结果 | 第94-97页 |
5.4 臭氧氧化过程的建模 | 第97-107页 |
5.4.1 模型的建立 | 第97-99页 |
5.4.2 计算结果 | 第99-102页 |
5.4.3 参数敏感性分析 | 第102-107页 |
5.5 本章小结 | 第107-109页 |
第六章 阳离子红X-GRL染料的O_3/UV氧化处理研究 | 第109-142页 |
6.1 实验方法 | 第109页 |
6.2 O_3/UV氧化机理研究 | 第109-111页 |
6.2.1 O_3/UV氧化过程中染料的降解、TOC和pH的下降、NO_3~-的生成 | 第109页 |
6.2.2 GC/MS中间产物定性结果 | 第109页 |
6.2.3 GC中间产物半定量结果 | 第109-111页 |
6.2.4 染料的脱色反应路径 | 第111页 |
6.3 O_3/UV传质-反应动力学 | 第111-119页 |
6.3.1 影响因素研究 | 第111-116页 |
6.3.2 计算结果 | 第116-119页 |
6.4 O_3/UV氧化过程的建模 | 第119-137页 |
6.4.1 模型的建立 | 第119-123页 |
6.4.2 计算结果 | 第123-127页 |
6.4.3 参数敏感性分析 | 第127-137页 |
6.4.3.1 pH的影响分析 | 第128页 |
6.4.3.2 温度的影响分析 | 第128页 |
6.4.3.3 气相臭氧分压的影响分析 | 第128-129页 |
6.4.3.4 气量的影响分析 | 第129页 |
6.4.3.5 光强的影响分析 | 第129页 |
6.4.3.6 抑制剂TBA的影响分析 | 第129页 |
6.4.3.7 参数敏感性分析结论 | 第129-137页 |
6.5 O_3和O_3/UV氧化技术的比较 | 第137-140页 |
6.5.1 降解机理的比较 | 第137页 |
6.5.2 降解效果的比较 | 第137-138页 |
6.5.3 降解动力学的比较 | 第138-140页 |
6.6 本章小结 | 第140-142页 |
第七章 O_3、O_3/UV氧化与生化组合的工程应用研究 | 第142-149页 |
7.1 实验方法和装置 | 第142-143页 |
7.2 实验结果 | 第143-148页 |
7.2.1 O_3、O_3/UV前置工艺 | 第143-145页 |
7.2.1.1 O_3、O_3/UV氧化处理 | 第143-144页 |
7.2.1.2 生化处理 | 第144-145页 |
7.2.1.3 物化处理 | 第145页 |
7.2.2 O_3、O_3/UV后置工艺 | 第145-147页 |
7.2.2.1 生化处理 | 第145-146页 |
7.2.2.2 物化处理 | 第146页 |
7.2.2.3 O_3、O_3/UV氧化处理 | 第146-147页 |
7.2.3 O_3、O_3/UV前置及后置工艺的比较 | 第147-148页 |
7.3 本章小结 | 第148-149页 |
第八章 结论 | 第149-153页 |
8.1 UV氧化处理研究 | 第149页 |
8.2 O_3氧化处理研究 | 第149-150页 |
8.3 O_3/UV氧化处理研究 | 第150-151页 |
8.4 O_3、O_3/UV氧化与生化组合的工程应用研究 | 第151-153页 |
附录A H_3PO_4-NaOH缓冲溶液的配制 | 第153-155页 |
附录B CODcr快速测定法 | 第155-156页 |
附录C 靛蓝比色法测定溶解臭氧方法 | 第156-158页 |
附录D 气相臭氧浓度的测定 | 第158-160页 |
附录E 光源光子流率P_(253.7)的测定 | 第160-161页 |
附录F 反应器特性参数K_L、a的测定 | 第161-167页 |
附录G 间接反应速度常数K_R的测定 | 第167-168页 |
附录H 有效光程L的求取 | 第168-169页 |
参考文献 | 第169-175页 |
符号说明 | 第175-176页 |
论文、著作发表情况 | 第176-177页 |
致谢 | 第177页 |