| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 射流简介 | 第9页 |
| 1.2 流动控制技术 | 第9-13页 |
| 1.2.1 射流控制技术的发展及分类 | 第10-11页 |
| 1.2.3 微射流控制技术的发展及现状 | 第11-12页 |
| 1.2.4 高频脉冲微射流控制技术现状及实验装置的发展 | 第12-13页 |
| 1.3 课题的来源及研究意义 | 第13页 |
| 1.3.1 课题的目的及研究意义 | 第13页 |
| 1.3.2 课题的来源 | 第13页 |
| 1.4 本文的研究内容总述 | 第13-15页 |
| 第二章 实验台的结构设计及三维建模 | 第15-41页 |
| 2.1 实验装置主要进行的相关实验 | 第15页 |
| 2.2 实验装置的设计要求及主要参数的确定 | 第15-16页 |
| 2.3 实验装置工作原理及总体结构的设计 | 第16-18页 |
| 2.3.1 实验装置工作原理及系统组成 | 第16-17页 |
| 2.3.2 实验装置气体射流部分结构 | 第17-18页 |
| 2.4 气压站控制中心及缓冲室的结构设计 | 第18-19页 |
| 2.5 射流管的结构设计 | 第19-31页 |
| 2.5.1 扩散段的结构设计 | 第20-21页 |
| 2.5.2 扩散段扩散角的选取 | 第21-24页 |
| 2.5.3 整流段的结构设计 | 第24-25页 |
| 2.5.4 收缩段的设计 | 第25-26页 |
| 2.5.5 收缩段收缩曲线的选择 | 第26-30页 |
| 2.5.6 收缩段收缩长度的选取 | 第30-31页 |
| 2.6 高频微射流系统的结构设计 | 第31-38页 |
| 2.6.1 高频电磁阀式微射流发生器的设计 | 第31-32页 |
| 2.6.2 转阀式微射流发生器的设计 | 第32-36页 |
| 2.6.3 微射流恒压室的设计 | 第36-38页 |
| 2.7 本章小结 | 第38-41页 |
| 第三章 实验台的搭建及实验设备与实验台调试 | 第41-49页 |
| 3.1 实验台的搭建 | 第41-42页 |
| 3.2 实验台中的系统及仪器设备 | 第42-46页 |
| 3.2.1 射流气体处理系统 | 第42-43页 |
| 3.2.2 实验台控制系统 | 第43-44页 |
| 3.2.3 流场的监测和数据采集系统 | 第44-46页 |
| 3.3 实验台的调试 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 CFD建模及模型可靠性分析 | 第49-61页 |
| 4.1 CFD简介 | 第49-51页 |
| 4.2 湍流模型 | 第51-55页 |
| 4.3 大涡模拟控制方程和亚格子应力模型 | 第55-57页 |
| 4.4 计算域网格划分及边界条件 | 第57-59页 |
| 4.4.1 计算域及网格划分 | 第57-58页 |
| 4.4.2 边界条件的确定 | 第58-59页 |
| 4.5 模型计算精度的分析 | 第59-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 流场的数值模拟及流场结构的分析 | 第61-73页 |
| 5.1 自由射流流场结构的分析 | 第61-62页 |
| 5.2 不同控制条件下流场结构的分析 | 第62-70页 |
| 5.2.1 两个微射流对称分布下流场结构的分析 | 第63-64页 |
| 5.2.2 三个微射流均布下的流场结构的分析 | 第64-67页 |
| 5.2.3 四个微射流对称分布下流场结构的分析 | 第67-68页 |
| 5.2.4 六个微射流均匀分布下流场结构的分析 | 第68-70页 |
| 5.3 不同控制条件下对流场的对比分析 | 第70-71页 |
| 5.4 本章小结 | 第71-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果 | 第81页 |