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二硫化钼纳米薄膜能带及功函数调控的第一性原理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-18页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 二硫化钼结构第10-12页
        1.2.1 二硫化钼晶体结构第10页
        1.2.2 二硫化钼形貌第10-12页
    1.3 二硫化钼物理性质第12-16页
        1.3.1 二硫化钼光学表征第12-14页
        1.3.2 二硫化钼光电性质第14-15页
        1.3.3 二硫化钼其它性能第15-16页
        1.3.4 二硫化钼器件应用第16页
    1.4 本论文的选题依据和研究内容第16-18页
第2章 理论计算方法第18-24页
    2.1 密度泛函理论第18-21页
        2.1.1 波恩-奥本海默近似(Born-Oppenheimer, BO)第18-19页
        2.1.2 单电子近似及自洽场方法(Hartree-Fock,HF)第19-20页
        2.1.3 密度泛函理论第20-21页
    2.2 第一性原理的应用第21-24页
        2.2.1 VASP计算软件包第21-22页
        2.2.2 Materials Studio软件第22页
        2.2.3 能带结构计算第22页
        2.2.4 电子功函数计算第22-24页
第3章 层数和间距对MoS_2能带和功函数的影响第24-33页
    3.1 引言第24页
    3.2 理论方法和模型第24-26页
        3.2.1 计算方法和参数第24-25页
        3.2.2 不同层数与间距MoS_2 -slab模型第25-26页
    3.3 结果和讨论第26-32页
        3.3.0 不同层数N-MoS_2 (0001)-slab的层数能带第26-27页
        3.3.1 不同层数N-MoS_2 (0001)-slab的应变能带第27-28页
        3.3.2 不同层间距离 2-MoS_2 (0001)-slab的间距能带第28-30页
        3.3.3 不同层数与间距MoS_2 (0001)-slab的功函数第30页
        3.3.4 N-MoS_2 (0001)-slab及其不同间距的能带对齐第30-32页
    3.4 本章小结第32-33页
第4章 硫空位对单层MoS_2能带和功函数的影响第33-44页
    4.1 引言第33页
    4.2 计算方法第33页
    4.3 单层MoS_2含硫原子空位的功函数和能带第33-38页
        4.3.1 单层MoS_2含硫原子空位模型第33-35页
        4.3.2 单层MoS_2含硫原子空位的功函数第35-36页
        4.3.3 单层MoS_2含硫原子空位的能带特性。第36-38页
    4.4 单层MoS_2含氧原子杂质空位的功函数和能带第38-43页
        4.4.1 单层MoS_2含氧原子杂质空位模型第38-40页
        4.4.2 单层MoS_2氧原子杂质空位的功函数。第40-41页
        4.4.3 单层MoS_2氧原子杂质空位能带特性。第41-43页
    4.5 本章小结第43-44页
第5章 Au/MoS_2空位能带功函数研究第44-54页
    5.1 引言第44页
    5.2 方法和模型第44-53页
        5.2.1 计算方法第44-45页
        5.2.2 Au/MoS_2空位模型及参数第45-48页
        5.2.3 Au/MoS_2硫原子空位分布有效功函数第48-51页
        5.2.4 Au/MoS_2硫原子空位分布的能带特性。第51-53页
    5.3 本章小结第53-54页
第6章 总结与展望第54-56页
    6.1 总结第54-55页
    6.2 展望第55-56页
参考文献第56-64页
致谢第64-65页
攻读硕士期间的学术论文第65页

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