| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 论文的选题背景 | 第12-13页 |
| 1.2 微弧氧化技术的研究现状 | 第13-23页 |
| 1.2.1 微弧氧化的机理研究 | 第14-16页 |
| 1.2.2 铝合金微弧氧化膜层的组织结构研究 | 第16-18页 |
| 1.2.3 铝合金微弧氧化膜层的性能研究 | 第18-19页 |
| 1.2.4 微弧氧化技术的应用研究 | 第19-20页 |
| 1.2.5 微弧氧化技术的不足 | 第20-21页 |
| 1.2.6 扫描式微弧氧化技术的提出 | 第21-23页 |
| 1.3 本文的研究内容及意义 | 第23-26页 |
| 2 实验设备及研究方法 | 第26-34页 |
| 2.1 实验设备及实验材料 | 第26-29页 |
| 2.1.1 扫描式微弧氧化实验设备 | 第26-28页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第28-29页 |
| 2.2 扫描式微弧氧化工艺流程 | 第29页 |
| 2.3 膜层结构表征与性能测试 | 第29-34页 |
| 2.3.1 放电火花特征采集 | 第29-30页 |
| 2.3.2 组织结构表征 | 第30页 |
| 2.3.3 膜层力学性能测试 | 第30-31页 |
| 2.3.4 耐腐蚀性能测试 | 第31-32页 |
| 2.3.5 摩擦磨损性能测试 | 第32-34页 |
| 3 铝合金扫描式微弧氧化工艺研究 | 第34-50页 |
| 3.1 扫描式微弧氧化膜层的宏观形貌特征 | 第34-35页 |
| 3.2 电极间距对膜层结构和硬度的影响 | 第35-39页 |
| 3.2.1 电极间距对陶瓷膜生长规律的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2 电极间距对膜层粗糙度的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.3 电极间距对膜层显微硬度的影响 | 第38-39页 |
| 3.3 扫描转角对膜层结构和硬度的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.1 扫描转角对膜层生长的影响 | 第40页 |
| 3.3.2 扫描转角对膜层粗糙度和显微硬度的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 扫描速度和道次对膜层结构和硬度的影响 | 第41-48页 |
| 3.4.1 扫描速度对膜层生长及性能的影响规律 | 第43-44页 |
| 3.4.2 扫描道次对膜层生长及性能的影响规律 | 第44-46页 |
| 3.4.3 扫描式微弧氧化成膜效率探讨 | 第46-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 铝合金扫描式微弧氧化放电特性研究 | 第50-66页 |
| 4.1 试验方案 | 第50-51页 |
| 4.2 扫描式微弧氧化电流、电压变化特征 | 第51-55页 |
| 4.2.1 SMAO电压变化特征 | 第51-52页 |
| 4.2.2 SMAO电流变化特征 | 第52-53页 |
| 4.2.3 氧化时间对试样表面火花放电的影响 | 第53-55页 |
| 4.3 电极间距对扫描式微弧氧化放电特性的影响 | 第55-61页 |
| 4.3.1 电极间距对SMAO工作电流的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.2 电极间距对SMAO起弧电压的影响 | 第56-57页 |
| 4.3.3 电极间距对试样表面放电火花的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.4 讨论 | 第58-61页 |
| 4.4 扫描速度对扫描式微弧氧化放电特性的影响 | 第61-63页 |
| 4.4.1 扫描速度对SMAO工作电流的影响 | 第61页 |
| 4.4.2 扫描速度对SMAO击穿电压的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.3 扫描速度对试样表面放电火花的影响 | 第62-63页 |
| 4.5 扫描式微弧氧化的放电模型 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-66页 |
| 5 铝合金扫描式微弧氧化陶瓷膜的成膜机理 | 第66-98页 |
| 5.1 铝合金扫描式微弧氧化陶瓷膜的生长动力学 | 第66-68页 |
| 5.2 表面形貌的演变规律 | 第68-78页 |
| 5.2.1 扫描式微弧氧化陶瓷膜的宏观形貌 | 第68-69页 |
| 5.2.2 A356铝合金SMAO陶瓷膜表面形貌的演变 | 第69-72页 |
| 5.2.3 SiC_p/A356复合材料SMAO陶瓷膜表面形貌的演变 | 第72-78页 |
| 5.3 截面形貌的演变规律 | 第78-82页 |
| 5.3.1 A356陶瓷膜截面形貌的演变 | 第78-81页 |
| 5.3.2 SiC_p/A356复合材料陶瓷膜截面形貌的演变 | 第81-82页 |
| 5.4 铝合金膜层的相结构变化 | 第82-88页 |
| 5.4.1 定点喷射处理陶瓷膜相结构的分布特性 | 第82-85页 |
| 5.4.2 扫描处理陶瓷膜相结构的分布特性 | 第85-87页 |
| 5.4.3 陶瓷膜相结构形成机理讨论 | 第87-88页 |
| 5.5 扫描式微弧氧化膜的元素分布 | 第88-93页 |
| 5.5.1 表面元素分布 | 第88-91页 |
| 5.5.2 截面元素分布 | 第91-93页 |
| 5.6 成膜机理讨论 | 第93-96页 |
| 5.6.1 SMAO过程中SiC颗粒的演变机制 | 第93-95页 |
| 5.6.2 SMAO陶瓷膜的成膜机理 | 第95-96页 |
| 5.7 本章小结 | 第96-98页 |
| 6 铝合金扫描式微弧氧化陶瓷膜的性能研究 | 第98-120页 |
| 6.1 扫描式微弧氧化陶瓷膜的力学性能 | 第98-102页 |
| 6.1.1 陶瓷膜的结合强度 | 第99-100页 |
| 6.1.2 陶瓷膜的拉伸破坏机制 | 第100-102页 |
| 6.2 扫描式微弧氧化陶瓷膜的耐腐蚀性能 | 第102-109页 |
| 6.2.1 耐酸性腐蚀浸泡试验 | 第103-104页 |
| 6.2.2 铝合金SMAO陶瓷膜的极化曲线 | 第104-106页 |
| 6.2.3 铝合金SMAO陶瓷膜的电化学阻抗谱 | 第106-108页 |
| 6.2.4 铝合金SMAO陶瓷膜的腐蚀机理 | 第108-109页 |
| 6.3 扫描式微弧氧化陶瓷膜的摩擦磨损性能 | 第109-119页 |
| 6.3.1 SMAO工艺参数对摩擦系数的影响 | 第109-111页 |
| 6.3.2 SMAO工艺参数对磨损率的影响 | 第111-114页 |
| 6.3.3 不同处理模式下SMAO膜层的摩擦学行为 | 第114-117页 |
| 6.3.4 扫描式微弧氧化陶瓷膜的摩擦磨损机理 | 第117-119页 |
| 6.4 本章小结 | 第119-120页 |
| 7 结论与展望 | 第120-122页 |
| 7.1 研究结论 | 第120-121页 |
| 7.2 展望 | 第121-122页 |
| 参考文献 | 第122-130页 |
| 作者简历及攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第130-134页 |
| 学位论文数据集 | 第134页 |
