大量程场式时栅位移传感器设计制造及关键技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·纳米位移测量技术的发展状况 | 第10-15页 |
| ·纳米位移测量的研究进展 | 第10-11页 |
| ·纳米位移传感器的种类及其发展 | 第11-15页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| 第二章 时栅传感器原理及发展 | 第16-23页 |
| ·时栅传感器的工作原理 | 第16-17页 |
| ·时栅传感器的发展 | 第17-22页 |
| ·齿式时栅传感器研究 | 第18-19页 |
| ·场式时栅位移传感器 | 第19-22页 |
| ·磁场式时栅位移传感器 | 第19-21页 |
| ·电场式时栅位移传感器 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 大量程电场式纳米时栅传感器的优化设计 | 第23-33页 |
| ·电场式时栅传感器结构优化 | 第23-30页 |
| ·电场式时栅传感器的工作原理 | 第23-25页 |
| ·计算机仿真及 COMSOL 介绍 | 第25页 |
| ·仿真模型建立 | 第25-27页 |
| ·仿真结果及分析 | 第27-30页 |
| ·电场式时栅传感器加工版图设计 | 第30-32页 |
| ·单层结构时栅传感器版图设计 | 第30-31页 |
| ·多层结构时栅传感器版图设计 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 大量程电场式时栅传感器的加工制造 | 第33-42页 |
| ·大量程电场式时栅传感器 | 第33页 |
| ·单层结构时栅传感器的设计 | 第33-37页 |
| ·多层结构时栅传感器的设计 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第五章 实验验证及结果分析 | 第42-55页 |
| ·单层结构时栅传感器测试 | 第42-48页 |
| ·形貌测试 | 第42-43页 |
| ·性能测试 | 第43-48页 |
| ·多层结构传感器测试 | 第48-54页 |
| ·表面形貌测试 | 第48-52页 |
| ·性能测试 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-58页 |
| ·论文总结 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |