| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-27页 |
| ·铁电性的概念及铁电材料的研究历史 | 第11-13页 |
| ·铁电薄膜的发展历程及制备技术 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜的发展历程 | 第13页 |
| ·铁电薄膜的制备技术 | 第13-14页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第14-19页 |
| ·铁电薄膜在微传感系统上的应用 | 第15页 |
| ·铁电薄膜在高频器件上的应用 | 第15页 |
| ·铁电薄膜在可调谐微波无源器件上的应用 | 第15-16页 |
| ·铁电薄膜在存储器上的应用 | 第16-19页 |
| ·本论文的工作 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-27页 |
| 第二章 微结构对 PBZR_0.4TI_0.6O_3多层膜光学特性的影响 | 第27-43页 |
| ·聚合物平均分子量对 PZT 多层膜微结构和光学特性的影响 | 第28-34页 |
| ·聚合物平均分子量对 PZT 多层膜结晶特性的影响 | 第29-30页 |
| ·聚合物平均分子量对 PZT 多层膜截面结构的影响 | 第30-33页 |
| ·聚合物平均分子量对 PZT 多层膜反射性能的影响 | 第33-34页 |
| ·聚合物含量对 PZT 多层膜微结构和光学特性的影响 | 第34-38页 |
| ·聚合物含量对 PZT 多层膜结晶特性的影响 | 第34-35页 |
| ·聚合物含量对 PZT 多层膜截面结构的影响 | 第35-36页 |
| ·聚合物含量对 PZT 多层膜反射性能的影响 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 第三章 特异结构电介质多层膜的制备及其性能研究 | 第43-57页 |
| ·背景介绍 | 第43-45页 |
| ·一维非周期铁电基全介质反射镜的制备 | 第45-52页 |
| ·制备 STO/PZT 多层膜的前驱体溶液的配制 | 第46-47页 |
| ·膜系结构设计 | 第47页 |
| ·STO/PZT 多层膜系的制备 | 第47-48页 |
| ·STO/PZT 多层膜系的结构表征及物性分析 | 第48-52页 |
| ·旋涂镀膜速率和锆钛比对特异序列 STO/PZT 多层膜反射性能的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第四章 微结构对周期性 PZT 多层膜电学性能的影响 | 第57-77页 |
| ·PZT 多孔陶瓷材料及本章主要研究内容概述 | 第57-59页 |
| ·PZT 多层膜及相应电容器的制备 | 第59-60页 |
| ·聚合物平均分子量和含量不同的溶液制备的 PZT 多层膜的微结构表征分析 | 第60-64页 |
| ·聚合物平均分子量和含量对 PZT 多层膜介电性能的影响 | 第64-72页 |
| ·聚合物平均分子量和含量对 PZT 多层膜铁电性能的影响 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 第五章 PZT 基光学微腔的制备及微腔的电学特性研究 | 第77-87页 |
| ·研究背景介绍 | 第77-78页 |
| ·PZT 基光学微腔的制备 | 第78-79页 |
| ·PZT 基光学微腔的微结构表征 | 第79-80页 |
| ·PZT 基光学微腔的物性研究 | 第80-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-87页 |
| 第六章 总结与展望 | 第87-90页 |
| ·总结 | 第87-88页 |
| ·展望 | 第88-90页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第90页 |
