摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-21页 |
·引言 | 第9页 |
·有机场效应晶体管概述 | 第9-14页 |
·有机场效应晶体管的结构 | 第9-10页 |
·有机场效应晶体管的工作原理 | 第10-11页 |
·有机场效应晶体管的工作模式 | 第11页 |
·有机场效应晶体管的参数 | 第11-13页 |
·有机场效应晶体管的特性曲线 | 第13-14页 |
·有机场效应晶体管发展历史和研究现状 | 第14-19页 |
·有机场效应晶体管的发展历史 | 第14-15页 |
·有机场效应晶体管的制备 | 第15-17页 |
·有机场效应晶体管的研究现状 | 第17-19页 |
·有机场效应晶体管存在的问题 | 第19-20页 |
·本论文主要工作内容 | 第20-21页 |
第二章 对六联苯对酞菁铜衍生物有机场效应晶体管性能的影响 | 第21-31页 |
·引言 | 第21-22页 |
·实验与表征 | 第22-27页 |
·实验主要原料与试剂 | 第22页 |
·实验测试仪器 | 第22-24页 |
·对六联苯薄膜的制备和表征 | 第24-27页 |
·基于酞菁铜衍生物有机场效应晶体管的制备 | 第27页 |
·对六联苯对酞菁铜有机场效应晶体管性能的影响及分析 | 第27-28页 |
·对六联苯对全氟代酞菁铜有机场效应晶体管性能的影响和分析 | 第28-30页 |
·小结 | 第30-31页 |
第三章 对四联苯对酞菁铜衍生物有机场效应晶体管性能的影响 | 第31-44页 |
·引言 | 第31页 |
·实验部分 | 第31-33页 |
·主要实验原料与仪器 | 第31-32页 |
·对四联苯薄膜的制备 | 第32页 |
·酞菁铜衍生物有机场效应晶体管的制备 | 第32-33页 |
·对四联苯薄膜的表征 | 第33-36页 |
·AFM 和 SEM 表征 | 第33-34页 |
·XRD 表征 | 第34-35页 |
·电容频率测试 | 第35-36页 |
·对四联苯对酞菁铜有机场效应晶体管性能的影响和分析 | 第36-40页 |
·对四联苯对全氟代酞菁铜有机场效应晶体管性能的影响和分析 | 第40-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
第四章 全文总结与展望 | 第44-46页 |
·全文总结 | 第44-45页 |
·展望 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-51页 |
发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |