摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 引言 | 第10-21页 |
·研究背景及意义 | 第10-15页 |
·微纳米力学实验技术的发展 | 第10-12页 |
·尺寸效应 | 第12-14页 |
·时空不连续性 | 第14-15页 |
·研究方法 | 第15-19页 |
·研究内容 | 第19-21页 |
第2章 亚微米单晶柱压缩中的尺寸效应和位错拥塞 | 第21-47页 |
·本章引论 | 第21页 |
·三维离散位错动力学方法介绍 | 第21-29页 |
·位错运动方程及位错受力分析 | 第21-22页 |
·自由表面的镜像力计算 | 第22-23页 |
·位错反应和位错结构的拓扑分析 | 第23-24页 |
·位错连接及其强度计算 | 第24-29页 |
·位错的交滑移 | 第29页 |
·亚微米单晶 Cu 柱均匀单轴压缩中的间歇性塑性流动及尺寸效应 | 第29-38页 |
·计算模型描述 | 第29-30页 |
·间歇性塑性流动 | 第30-32页 |
·三类与尺寸相关的硬化机制及其特征尺寸 | 第32-38页 |
·模拟结论 | 第38页 |
·位错连接链与位错拥塞 | 第38-46页 |
·位错拥塞的定义和研究现状 | 第39-40页 |
·位错拥塞的结构表征:位错连接链的形成 | 第40-42页 |
·位错拥塞的物理表征 | 第42-43页 |
·位错拥塞形成的影响因素及可能相图 | 第43-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第3章 基于点缺陷扩散理论的位错攀移机制 | 第47-81页 |
·本章引论 | 第47-48页 |
·空位管扩散理论与位错攀移速率 | 第48-52页 |
·空位管扩散理论与离散位错动力学的耦合 | 第52-54页 |
·材料参数 | 第54页 |
·Bardeen-Herring 位错源的激活 | 第54-60页 |
·BHS 激活的应力门槛值 | 第55-56页 |
·激活后 BHS 的演化过程 | 第56-57页 |
·未激活 BHS 与临界 BHS 的平衡构型 | 第57-58页 |
·结果讨论 | 第58-60页 |
·棱柱型位错环的收缩和湮灭 | 第60-67页 |
·位错环收缩和湮灭的温度效应 | 第61-63页 |
·位错环收缩和湮灭的应力效应 | 第63-64页 |
·位错环收缩过程中的形状变化 | 第64-66页 |
·结果讨论 | 第66-67页 |
·位错偶的分解及其产物 | 第67-72页 |
·位错偶分解过程的模拟 | 第69-70页 |
·振荡波长对分解过程的影响 | 第70-71页 |
·振荡幅值对分解过程的影响 | 第71-72页 |
·管扩散与体扩散的共同作用及其与离散位错动力学的耦合 | 第72-75页 |
·管扩散与体扩散的共同作用下单位错环的收缩 | 第75-77页 |
·管扩散与体扩散的共同作用下位错环群的粗化过程 | 第77-80页 |
·本章小结 | 第80-81页 |
第4章 混合型多尺度晶体塑性计算方法 | 第81-110页 |
·本章引论 | 第81-82页 |
·计算方法介绍 | 第82-91页 |
·问题描述 | 第82-83页 |
·粘弹塑性本构关系 | 第83-84页 |
·连续介质有限元与三维离散位错动力学的耦合 | 第84-90页 |
·计算流程 | 第90-91页 |
·亚微米 Cu 柱压缩的大变形分析 | 第91-100页 |
·位错增殖机制与反常规的硬化行为 | 第92-96页 |
·均匀加载下的非均匀变形 | 第96-97页 |
·接触条件的影响 | 第97-98页 |
·微纳米柱体锥度的影响 | 第98-100页 |
·分层式的晶界-位错相互作用模型 | 第100-105页 |
·位错与晶界的相互作用 | 第101-104页 |
·晶界能和内禀层错能的确定 | 第104-105页 |
·双晶亚微米 Cu 柱的压缩 | 第105-108页 |
·初始构型 | 第105-106页 |
·结果及讨论 | 第106-108页 |
·本章小结 | 第108-110页 |
第5章 结论与展望 | 第110-113页 |
·结论和创新点 | 第110-112页 |
·工作展望 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-124页 |
致谢 | 第124-126页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第126-127页 |