| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·课题背景 | 第11-13页 |
| ·高功率啁啾脉冲放大系统 | 第11-12页 |
| ·脉冲压缩光栅的主要指标及制作工艺 | 第12-13页 |
| ·光栅的机械拼接 | 第13页 |
| ·课题的研究现状 | 第13-19页 |
| ·单次曝光法 | 第14页 |
| ·扫描曝光法 | 第14-15页 |
| ·基于参考光栅的曝光拼接方法 | 第15-17页 |
| ·基于潜像光栅的曝光拼接方法 | 第17-19页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第19-20页 |
| ·论文结构安排 | 第20-21页 |
| 本章小结 | 第21-22页 |
| 第2章 参数定义与拼接条件 | 第22-33页 |
| ·参数定义 | 第22-23页 |
| ·拼接误差及拼接条件 | 第23-24页 |
| ·拼接光栅的衍射波面误差及调整 | 第24-31页 |
| ·波面俯仰及调整 | 第24-26页 |
| ·波面偏摆及调整 | 第26-29页 |
| ·波面错位及调整 | 第29-31页 |
| ·基板面形和曝光像差的影响 | 第31-32页 |
| 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 曝光拼接I：使用潜像光栅与曝光光束调整位相 | 第33-49页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验系统 | 第33-44页 |
| ·全息曝光系统 | 第34页 |
| ·使用参考光栅干涉条纹的位相锁定系统 | 第34-37页 |
| ·使用红光双光束干涉仪的姿态调整系统 | 第37-40页 |
| ·使用潜像光栅干涉条纹的位相调整系统 | 第40-43页 |
| ·拼接流程 | 第43-44页 |
| ·实验结果 | 第44-47页 |
| ·设定栅线平行度误差的1×2拼接光栅 | 第44-45页 |
| ·设定栅线位相误差的1×2拼接光栅 | 第45页 |
| ·1×2拼接光栅 | 第45-46页 |
| ·1×3拼接光栅 | 第46-47页 |
| ·讨论 | 第47-48页 |
| ·锁定系统与曝光、调整系统间的漂移 | 第47-48页 |
| ·曝光光束对潜像光栅的伤害 | 第48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 曝光拼接 II：使用潜像光栅与曝光光束锁定位相并调整姿态 | 第49-65页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·拼接原理的改进 | 第49-57页 |
| ·对潜像光栅的保护 | 第50-51页 |
| ·使用潜像光栅干涉条纹的位相锁定和姿态调整 | 第51-56页 |
| ·拼接流程 | 第56-57页 |
| ·实验结果 | 第57-60页 |
| ·2×2拼接光栅 | 第57-59页 |
| ·衰减光楔对潜像光栅的保护 | 第59-60页 |
| ·讨论 | 第60-64页 |
| ·参考光栅与潜像光栅间的漂移 | 第60-63页 |
| ·曝光期间的姿态锁定 | 第63-64页 |
| 本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 曝光拼接III：完全自参考的位相和姿态的锁定 | 第65-82页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·拼接原理的继续改进 | 第65-72页 |
| ·使用潜像光栅干涉条纹的姿态锁定 | 第66页 |
| ·完全自参考的条纹锁定 | 第66-70页 |
| ·拼接流程 | 第70-72页 |
| ·实验结果 | 第72-80页 |
| ·1×2小口径弱光拼接光栅 | 第72-73页 |
| ·1×4小口径强光拼接光栅 | 第73-74页 |
| ·1×2大口径弱光拼接光栅 | 第74-75页 |
| ·1×2大口径强光拼接光栅 | 第75-76页 |
| ·大口径单次曝光光栅 | 第76-77页 |
| ·曝光拼接III的结果统计 | 第77-79页 |
| ·拼接实验分析 | 第79-80页 |
| ·讨论：铬膜的使用 | 第80页 |
| 本章小结 | 第80-82页 |
| 第6章 多层介质膜拼接光栅的离子束刻蚀 | 第82-100页 |
| ·引言 | 第82-83页 |
| ·刻蚀方案 | 第83-85页 |
| ·工艺路线 | 第83-84页 |
| ·掩模参数的确定 | 第84-85页 |
| ·刻蚀监测 | 第85-90页 |
| ·刻蚀系统 | 第85-87页 |
| ·刻蚀终点判断 | 第87-90页 |
| ·实验结果 | 第90-97页 |
| ·刻蚀槽形的发展 | 第90-91页 |
| ·TM与TE偏振监测的对比 | 第91-92页 |
| ·使用TM偏振监测的样片刻蚀结果 | 第92-94页 |
| ·使用TM偏振三点监测的拼接光栅刻蚀结果 | 第94-97页 |
| ·讨论 | 第97-98页 |
| ·占宽比的控制 | 第97页 |
| ·清洗的重要性 | 第97-98页 |
| 本章小结 | 第98-100页 |
| 第7章 曝光拼接技术向米级光栅制作拓展的可行性分析 | 第100-117页 |
| ·可移植的优势技术 | 第100-101页 |
| ·剩余问题及解决方案 | 第101-110页 |
| ·曝光波面偏摆 | 第101-102页 |
| ·基板面形 | 第102-104页 |
| ·曝光像差 | 第104-109页 |
| ·接缝 | 第109-110页 |
| ·其它事项 | 第110-116页 |
| ·潜像衍射的强度 | 第110-115页 |
| ·m×n拼接的拓展 | 第115-116页 |
| 本章小结 | 第116-117页 |
| 第8章 总结与展望 | 第117-121页 |
| ·论文工作总结 | 第117-118页 |
| ·展望 | 第118-121页 |
| 参考文献 | 第121-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 附录A 全息曝光系统的像差调节 | 第128-135页 |
| A.1 基板姿态的调整 | 第128-129页 |
| A.2 曝光透镜的高精度调焦与离焦像差补偿 | 第129-134页 |
| A.2.1 单独透镜的粗调焦 | 第129页 |
| A.2.2 双透镜的补偿粗调焦 | 第129-130页 |
| A.2.3 双透镜的补偿精调焦 | 第130-134页 |
| 参考文献 | 第134-135页 |
| 附录B 基于光栅衍射的干涉条纹的锁定程序 | 第135-142页 |
| B.1 基于参考光栅干涉条纹的位相锁定程序 | 第135-137页 |
| B.1.1 程序界面和流程图 | 第135-136页 |
| B.1.2 程序设计要点 | 第136-137页 |
| B.2 基于潜像光栅干涉条纹的位相及姿态锁定程序 | 第137-140页 |
| B.2.1 程序界面和流程图 | 第137-139页 |
| B.2.2 程序设计要点 | 第139-140页 |
| B.3 用于条纹锁定的采样点选取程序 | 第140-142页 |
| 附录C 曝光拼接操作实例 | 第142-146页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第146-147页 |
