第一章 绪论 | 第1-29页 |
1.1 引言 | 第12-14页 |
1.2 先进的空间光学反射镜材料——碳化硅陶瓷 | 第14-16页 |
1.3 碳化硅反射镜的发展状况 | 第16-20页 |
1.4 数控光学加工技术简介 | 第20-22页 |
1.5 课题研究的目的及意义 | 第22页 |
1.6 本论文的主要研究内容 | 第22-24页 |
参考文献 | 第24-29页 |
第二章 碳化硅反射镜的光学加工设备—FSGJ-Ⅱ非球面数控加工中心 | 第29-44页 |
2.1 概述 | 第29-30页 |
2.2 FSGJ-Ⅱ非球面数控加工中心 | 第30-33页 |
2.3 FSGJ-Ⅱ的研磨、抛光控制原理 | 第33-40页 |
2.4 本章小结 | 第40-42页 |
参考文献 | 第42-44页 |
第三章 碳化硅反射镜的数控研磨 | 第44-63页 |
3.1 简介 | 第44-49页 |
3.2 研磨阶段影响材料去除效率的因素 | 第49-57页 |
3.3 研磨阶段的碳化硅表面质量 | 第57页 |
3.4 数控研磨的工艺参数的选择 | 第57-60页 |
3.5 本章小结 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第四章 碳化硅反射镜的数控抛光 | 第63-78页 |
4.1 碳化硅材料的抛光机理 | 第63-67页 |
4.2 影响抛光去除效率和表面粗糙度的因素 | 第67-74页 |
4.3 抛光工艺参数的选择 | 第74-75页 |
4.4 碳化硅抛光表面的表面质量与光学反射性能 | 第75-76页 |
4.5 本章小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-78页 |
第五章 碳化硅反射镜的表面改性研究 | 第78-85页 |
5.1 改性层材料与抛光 | 第80页 |
5.2 改性效果 | 第80-81页 |
5.3 改性层的附着力和温度测试 | 第81-83页 |
5.4 本章小结 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-85页 |
第六章 大口径碳化硅平面反射镜的数控光学加工与检测 | 第85-94页 |
6.1 船形镜的数控研磨 | 第86-88页 |
6.2 船形镜的数控抛光 | 第88-91页 |
6.3 重力实验 | 第91-92页 |
6.4 本章小结 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-94页 |
第七章 结论与展望 | 第94-95页 |
作者简介 | 第95-96页 |
发表和待发表的论文 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |