脉冲激光沉积方法制备太阳电池材料硫化锡及其性质的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-21页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·太阳电池介绍 | 第15-19页 |
| ·太阳电池原理 | 第15页 |
| ·太阳电池分类 | 第15-17页 |
| ·太阳电池的性能参数 | 第17-19页 |
| ·太阳电池应用 | 第19页 |
| ·太阳电池的发展前景 | 第19-21页 |
| ·薄膜太阳电池发展前景 | 第19-20页 |
| ·硫化锡材料的优势 | 第20-21页 |
| 第二章 硫化锡性质及其研究进展 | 第21-28页 |
| ·硫化锡的性质与研究进展 | 第21-26页 |
| ·硫化锡的基本性质 | 第21-22页 |
| ·硫化锡的研究进展 | 第22-26页 |
| ·硫化锡太阳电池研究进展 | 第26-27页 |
| ·本文研究内容 | 第27-28页 |
| 第三章 脉冲激光沉积系统简介与硫化锡薄膜的制备 | 第28-34页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第28页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第28-30页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第30-32页 |
| ·脉冲激光沉积设备 | 第32页 |
| ·硫化锡薄膜的制备 | 第32-34页 |
| 第四章 硫化锡薄膜结构和表面形貌分析 | 第34-43页 |
| ·硫化锡薄膜结构分析 | 第34-37页 |
| ·X 射线衍射原理 | 第34-35页 |
| ·硫化锡薄膜的XRD 分析 | 第35-37页 |
| ·硫化锡薄膜表面形貌及成分分析 | 第37-43页 |
| ·硫化锡薄膜的AFM 分析 | 第37-39页 |
| ·硫化锡薄膜的EDS 分析 | 第39-43页 |
| 第五章 硫化锡薄膜光学和电学性能分析 | 第43-58页 |
| ·半导体的光学性质 | 第43-45页 |
| ·光在半导体薄膜表面上的反射和透射 | 第43页 |
| ·半导体对光的吸收 | 第43-45页 |
| ·硫化锡薄膜的光学性质研究 | 第45-53页 |
| ·硫化锡薄膜的透射率及吸收系数 | 第45-46页 |
| ·硫化锡薄膜的禁带宽度 | 第46-52页 |
| ·半导体的光致发光特性 | 第52-53页 |
| ·不同衬底温度对硫化锡光致发光特性的影响 | 第53页 |
| ·金属与半导体的接触和电极的制备 | 第53-54页 |
| ·半导体的光电导 | 第54-55页 |
| ·硫化锡薄膜的电学性质研究 | 第55-58页 |
| ·衬底温度对硫化锡薄膜的电学性质的影响 | 第55-57页 |
| ·掺杂对硫化锡薄膜的电学性质的影响 | 第57-58页 |
| 总结与展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-64页 |
