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纳米尺度MOS器件的量子模拟方法研究

摘要第1-7页
Abstract第7-10页
常用符号对照表第10-12页
1 绪论第12-25页
   ·课题的意义及目标第12-17页
     ·半导体器件的演进回顾第12-15页
     ·计算电子学的意义第15-16页
     ·本论文的主要目标第16-17页
   ·量子计算电子学方法介绍第17-21页
     ·半导体器件模拟方法第17-19页
     ·量子模拟方法概述第19-21页
     ·研究载体的选取第21页
   ·国内外研究进展第21-23页
   ·论文内容安排第23-25页
2 量子模拟流程及其改进第25-55页
   ·典输运理论第25-29页
     ·电子能带结构第25-26页
     ·经典散射输运模型第26-28页
     ·经典弹道输运模型第28-29页
   ·体硅MOSFET的一维量子模拟第29-34页
   ·双栅MOSFET的准二维量子模拟第34-41页
     ·泊松方程的差分实现第35-38页
     ·从薛定谔方程到格林函数第38-41页
   ·快速解算流程及其改进第41-54页
     ·预估-矫正法第42-46页
     ·Anderson混合法加速的预估-矫正法第46-48页
     ·算法效率比较第48-54页
   ·小结第54-55页
3 双栅MOSFET的二维量子模拟第55-80页
   ·物理模型与数值模拟第55-60页
     ·二维哈密尔顿量的差分实现第57-58页
     ·开放边界条件的自能计算第58-59页
     ·格林函数法求解载流子密度和电流密度第59-60页
   ·递归格林函数法(RGF)第60-67页
   ·数值计算结果与讨论第67-79页
     ·与模空间方法的比较第68-72页
     ·栅极漏电流第72-74页
     ·电介质对器件性能的影响第74-79页
   ·小结第79-80页
4 格林函数快速解算方法比较第80-100页
   ·电极块约简法(CBR)第81-86页
   ·对格林函数高阶项的研究第86-94页
     ·RGF与CBR对比的参照基准的定标第87-89页
     ·高阶项对栅极电流的影响第89-94页
   ·CBR方法与RGF方法的比较第94-98页
     ·电流连续性比较第94-98页
     ·效率和适用性比较第98页
   ·小结第98-100页
5 总结和展望第100-102页
参考文献第102-108页
攻博期间科研成果第108-109页
后记第109-110页

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