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镓铟氧化物薄膜的制备及性质研究

摘要第1-14页
ABSTRACT第14-19页
符号表第19-21页
第一章 绪论第21-43页
 §1.1 概述第21-22页
 §1.2 Ga_2O_3材料的性质及其应用第22-29页
     ·结构性质第22-24页
     ·光学性质第24-26页
     ·电学性质第26-27页
     ·Ga_2O_3薄膜的应用第27-29页
 §1.3 In_2O_3材料的性质及其应用第29-32页
     ·结构性质第29-30页
     ·光学性质第30-31页
     ·电学性质第31-32页
     ·In_2O_3薄膜的应用第32页
 §1.4 薄膜的制备方法第32-35页
 §1.5 Ga_2O_3-In_2O_3材料体系的研究进展第35-37页
 §1.6 研究课题的选取第37-39页
 本章参考文献第39-43页
第二章 实验设备介绍及测试分析方法第43-59页
 §2.1 金属有机化学气相淀积法第43-51页
     ·MOCVD的基本原理第43-44页
     ·MOCVD技术的特点第44-45页
     ·MOCVD系统第45-47页
     ·本论文镓铟氧化物生长所用的MOCVD系统第47-50页
     ·本论文中材料生长所用的源第50-51页
 §2.2 测试分析方法第51-58页
     ·结构和成分测试分析第51-54页
     ·薄膜表面形貌分析第54-56页
     ·光学性质的测量第56页
     ·电学性质的测量第56-58页
 本章参考文献第58-59页
第三章 MOCVD法制备Ga_2O_3薄膜的研究第59-67页
 §3.1 薄膜样品的制备第59-60页
     ·前期准备工作第59-60页
     ·具体制备过程第60页
 §3.2 薄膜的结构及光学性质第60-66页
 本章参考文献第66-67页
第四章 MOCVD法制备In_2O_3薄膜的研究第67-76页
 §4.1 In_2O_3薄膜的制备第67-68页
 §4.2 蓝宝石衬底生长In_2O_3薄膜性质第68-72页
     ·衬底温度对薄膜结构性质的影响第68-69页
     ·蓝宝石衬底生长In_2O_3单晶薄膜外延生长机理分析第69-72页
 §4.3 In_2O_3薄膜光学及电学性质第72-75页
     ·衬底温度对薄膜光学、电学性质的影响第72-74页
     ·In_2O_3薄膜的光致发光性质第74-75页
 本章参考文献第75-76页
第五章 MOCVD法制备Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜的研究第76-104页
 §5.1 Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜样品的制备第76-77页
 §5.2 550℃衬底温度下制备Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜的结构及光电性质第77-92页
     ·Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜的结构性质及组分分析第77-86页
     ·Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜的光电性质第86-88页
     ·退火处理对薄膜结构及光电性质的影响第88-92页
 §5.3 700℃衬底温度下制备Ga_(2-2x)In_(2x)O_3薄膜的性质第92-103页
     ·薄膜的组分分析第92-94页
     ·样品的结构性质第94-99页
     ·样品的光学性质第99-101页
     ·样品的光致发光性质第101-103页
 本章参考文献第103-104页
第六章 MOCVD法制备Sn掺杂Ga_(1.4)In_(0.6)O_3薄膜的研究第104-112页
 §6.1 Sn掺杂Ga_(1.4)In_(0.6)O_3薄膜的制备第104-105页
 §6.2 掺杂浓度对Ga_(1.4)In_(0.6)O_3:Sn薄膜性质的影响第105-111页
     ·掺杂浓度对薄膜结构性质的影响第105-108页
     ·掺杂浓度对薄膜电学性质的影响第108-109页
     ·掺杂浓度对薄膜光学性质的影响第109-111页
 本章参考文献第111-112页
第七章 结论第112-114页
博士期间发表论文目录第114-116页
致谢第116-117页
Paper 1第117-127页
Paper 2第127-136页
学位论文评阅及答辩情况表第136页

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