摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第一章 绪论 | 第10-32页 |
1.1 介孔材料研究现状 | 第10-15页 |
1.1.1 介孔材料的概述 | 第10页 |
1.1.2 介孔材料的分类 | 第10-11页 |
1.1.3 介孔材料的合成方法与机理 | 第11-15页 |
1.2 有序介孔材料功能化方法 | 第15-19页 |
1.2.1 接枝法制备功能化介孔材料 | 第15-16页 |
1.2.2 共聚法制备功能化介孔材料 | 第16-17页 |
1.2.3 桥键法PMOs制备功能化介孔材料 | 第17-19页 |
1.3 功能化有序介孔材料的应用 | 第19-27页 |
1.3.1 药物控释 | 第19-22页 |
1.3.2 催化性能 | 第22-24页 |
1.3.3 分离吸附 | 第24-26页 |
1.3.4 质谱基质 | 第26-27页 |
1.4 有序介孔氢化氧化硅(HPMS)的研究现状 | 第27-28页 |
1.4.1 HPMS的合成方法 | 第27页 |
1.4.2 HPMS的结构特点与发展现状 | 第27-28页 |
1.5 选题意义 | 第28-30页 |
参考文献 | 第30-32页 |
第二章 基于聚合物热解接枝的HPMS表面有机功能化 | 第32-45页 |
2.1 序言 | 第32-35页 |
2.2 实验部分 | 第35-39页 |
2.2.1 试剂与仪器 | 第35-36页 |
2.2.2 PMMA接枝HPMS样品PMMA-HPMS的制备 | 第36页 |
2.2.3 PS接枝HPMS样品PS-HPMS的制备 | 第36-38页 |
2.2.4 PS-HPMS和PMMA-HPMS的表征 | 第38-39页 |
2.3 结果与讨论 | 第39-43页 |
2.3.1 透射电子显微镜TEM分析 | 第39页 |
2.3.2 红外光谱分析FT-IR | 第39-41页 |
2.3.3 N_2吸附/脱附比表面积及孔径分析 | 第41页 |
2.3.4 固体核磁共振NMR光谱分析 | 第41-42页 |
2.3.5 X射线光电子能谱分析 | 第42-43页 |
2.4 本章小结 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-45页 |
第三章 基于共缩合的HPMS表面有机功能化 | 第45-62页 |
3.1 序言 | 第45-49页 |
3.2 实验部分 | 第49-52页 |
3.2.1 实验试剂 | 第49页 |
3.2.2 实验仪器 | 第49-50页 |
3.2.3 甲基化有序介孔氢化氧化硅(CH_3-HPMS)的制备 | 第50页 |
3.2.4 乙烯基化有序介孔氢化氧化硅(CH_2=CH-HPMS)的制备 | 第50页 |
3.2.5 样品表征 | 第50-52页 |
3.3 结果与讨论 | 第52-59页 |
3.3.1 固体核磁共振NMR波谱分析 | 第52-54页 |
3.3.2 扫描电镜X射线能谱(SEM-EDS) | 第54页 |
3.3.3 X射线光电子能谱XPS分析 | 第54-55页 |
3.3.4 红外光谱分析FT-IR | 第55-56页 |
3.3.5 透射电子显微镜TEM分析 | 第56-57页 |
3.3.6 小角X射线散射(SAXS) | 第57页 |
3.3.7 N_2吸附/解吸比表面积及孔径分析 | 第57-59页 |
3.4 本章小结 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-62页 |
第四章 原位还原金颗粒的HPMS复合纳米粒子的制备 | 第62-73页 |
4.1 序言 | 第62-66页 |
4.2 实验部分 | 第66-69页 |
4.2.1 试剂与仪器 | 第66页 |
4.2.2 巯基化有序介孔氢化氧化硅的制备 | 第66-67页 |
4.2.3 不同浓度氯金酸溶液的配制 | 第67页 |
4.2.4 AuNPs/HPMS复合纳米粒子样品制备 | 第67-68页 |
4.2.5 样品表征与分析 | 第68-69页 |
4.3 结果与讨论 | 第69-71页 |
4.3.1 SH-HPMS-50结构及成分表征 | 第69-70页 |
4.3.2 透射电子显微镜TEM分析 | 第70-71页 |
4.4 本章小结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-73页 |
第五章 总结与展望 | 第73-75页 |
5.1 主要内容 | 第73-74页 |
5.2 展望 | 第74-75页 |
硕士期间发表的论文及申请专利 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |