| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第10-22页 |
| 1.1 薄膜沉积技术的发展方向和存在的问题 | 第10-15页 |
| 1.1.1 超薄薄膜沉积技术 | 第10-14页 |
| 1.1.2 原子层沉积技术的应用现状和发展方向 | 第14-15页 |
| 1.2 电化学催化剂的现状和存在的问题 | 第15-18页 |
| 1.2.1 非贵金属电化学催化剂的种类及制备 | 第15-17页 |
| 1.2.2 过渡金属化合物在电化学催化中的应用 | 第17-18页 |
| 1.3 碳化铁制备与发展 | 第18-20页 |
| 1.3.1 碳化铁结构特点 | 第19页 |
| 1.3.2 碳化铁性能与用途 | 第19-20页 |
| 1.4 论文研究的目的、意义及主要内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 论文研究的目的及意义 | 第20页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2 铁前驱体的合成与表征 | 第22-25页 |
| 2.1 铁前驱体的种类及特点 | 第22页 |
| 2.2 铁前驱体合成 | 第22-25页 |
| 2.2.1 Fe(~(tBu2)AMD)_2前驱体的合成和表征 | 第23-24页 |
| 2.2.2 Fe(~(tBu2)DAD)_2前驱体的合成和表征 | 第24-25页 |
| 3 实验装置及表征设备 | 第25-29页 |
| 3.1 薄膜沉积装置 | 第25-26页 |
| 3.2 薄膜沉积工艺 | 第26-27页 |
| 3.3 材料结构表征 | 第27页 |
| 3.4 材料电化学评价 | 第27-29页 |
| 4 等离子体增强原子层沉积碳化铁薄膜的研究 | 第29-41页 |
| 4.1 PEALD碳化铁薄膜沉积工艺 | 第29页 |
| 4.2 Fe(~(tBu2)AMD)_2前驱体原子层沉积碳化铁薄膜 | 第29-37页 |
| 4.2.1 碳化铁薄膜生长特性 | 第29-31页 |
| 4.2.2 沉积温度的影响 | 第31-33页 |
| 4.2.3 放电时间的影响 | 第33-34页 |
| 4.2.4 90 ℃下沉积碳化铁薄膜的表征 | 第34-36页 |
| 4.2.5 90 ℃下沉积碳化铁薄膜析氢性能 | 第36-37页 |
| 4.3 Fe(~(tBu2)DAD)_2前驱体原子层沉积碳化铁薄膜 | 第37-40页 |
| 4.3.1 碳化铁薄膜生长特性 | 第37-38页 |
| 4.3.2 90 ℃下沉积碳化铁薄膜的表征 | 第38-40页 |
| 4.3.3 90 ℃下沉积碳化铁薄膜析氢性能 | 第40页 |
| 4.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 5 脉冲化学气相沉积金属铁薄膜的研究 | 第41-49页 |
| 5.1 铁薄膜的介绍 | 第41-42页 |
| 5.2 脉冲化学气相沉积工艺 | 第42页 |
| 5.3 Fe(~(tBu2)DAD)_2前驱体脉冲化学气相沉积 | 第42-48页 |
| 5.3.1 沉积温度的影响 | 第42-46页 |
| 5.3.2 PVCD薄膜电化学析氧性能 | 第46-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 6 结论与展望 | 第49-51页 |
| 6.1 论文主要结论 | 第49页 |
| 6.2 论文创新点 | 第49页 |
| 6.3 进一步工作展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 作者攻读学位期间取得的研究成果 | 第56页 |
