| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 类金刚石薄膜结构 | 第7-9页 |
| 1.3 类金刚石薄膜制备方法 | 第9-11页 |
| 1.3.1 离子束沉积法 | 第9-10页 |
| 1.3.2 磁控溅射法 | 第10页 |
| 1.3.3 阴极弧法 | 第10页 |
| 1.3.4 脉冲激光沉积 | 第10-11页 |
| 1.3.5 电子回旋共振化学气象沉积 | 第11页 |
| 1.4 类金刚石薄膜的应用 | 第11-12页 |
| 1.4.1 机械性能应用 | 第11-12页 |
| 1.4.2 光学中应用 | 第12页 |
| 1.4.3 电学性能的应用 | 第12页 |
| 1.4.4 医学应用 | 第12页 |
| 1.5 DLC薄膜的发展 | 第12-13页 |
| 1.6 本论文的组织安排 | 第13-14页 |
| 第二章 实验设备及表征手段 | 第14-27页 |
| 2.1 微波ECR化学气相沉积 | 第14页 |
| 2.2 实验设备介绍 | 第14-18页 |
| 2.2.1 微波ECR等离子体源的产生原理和优点 | 第14-15页 |
| 2.2.2 微波ECR等离子体实验装置 | 第15-18页 |
| 2.3 DLC薄膜制备 | 第18-20页 |
| 2.3.1 基片预处理 | 第18页 |
| 2.3.2 验操作流程 | 第18-19页 |
| 2.3.3 DLC薄膜制备工艺参数 | 第19-20页 |
| 2.4 DLC薄膜的测试和表征方法 | 第20-26页 |
| 2.4.1 傅里叶变换红外光谱仪 | 第20-21页 |
| 2.4.2 激光拉曼光谱仪 | 第21-23页 |
| 2.4.3 薄膜厚度测量仪 | 第23-24页 |
| 2.4.4 紫外可见光红外分光光度计 | 第24-25页 |
| 2.4.5 光学显微镜 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 基片直流负偏压制备类金刚石薄膜研究 | 第27-36页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 直流偏压下样品结构表征 | 第27-35页 |
| 3.2.1 改变基片直流负偏压制备DLC薄膜Raman光谱 | 第28-31页 |
| 3.2.2 改变基片直流负偏压制备DLC薄膜傅里叶红外光谱 | 第31-32页 |
| 3.2.3 直流偏压加载时间对薄膜的影响 | 第32-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 基片射频偏压下DLC薄膜结构和光学性能表征 | 第36-45页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 射频偏压制备DLC薄膜Raman表征 | 第36-39页 |
| 4.3 射频偏压制备DLC薄膜傅里叶红外表征 | 第39-40页 |
| 4.4 薄膜表面图像和沉积率 | 第40-42页 |
| 4.5 基片射频自偏压下制备DLC薄膜光学透过率 | 第42-43页 |
| 4.6 基片射频偏压与直流偏压的Raman光谱对比 | 第43-44页 |
| 4.7 本章小结 | 第44-45页 |
| 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 献攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-52页 |
